【題目】配合物X{[Cu(phen)(Thr)(H2O)]ClO4}能夠通過插入或部分插入的模式與DNA作用,它可由Cu(ClO4)2、HThr(結(jié)構(gòu)簡式如圖l所示)、phen等為原料制備。
(1)Cu2+基態(tài)電子排布式為___。
(2)ClO4-的空間構(gòu)型為__(用文字描述),與ClO4-互為等電子體的一種分子的化學式為___。
(3)HThr分子中,碳原子的雜化類型為___;1molHThr中含有σ鍵的數(shù)目為___。
(4)配合物X中配離子的結(jié)構(gòu)如圖2所示,則配位原子為___(填元素符號)。
【答案】1s22s22p63s23p63d9或者[Ar] 3d9 正四面體形 CCl4等 sp2、sp3 16mol或16×6.02×1023個 O、N
【解析】
(1)Cu為29號元素,失去2e-得到Cu2+,則Cu2+基態(tài)電子排布式為1s22s22p63s23p63d9或者[Ar] 3d9,故答案為:1s22s22p63s23p63d9或者[Ar] 3d9;
(2) ClO4-的孤電子對數(shù)= ,則ClO4-的空間構(gòu)型為正四面體形,與ClO4-互為等電子體的有CCl4等,故答案為正四面體形;CCl4;
(3) 分子中C原子含有雙鍵和單鍵,則C的雜化方式有:sp2、sp3,1個HThr中含有16個σ鍵,則1molHThr中含有σ鍵的數(shù)目為:16mol或16×6.02×1023個,故答案為:sp2、sp3;16mol或16×6.02×1023個;
(4)根據(jù)配合物X中配離子的結(jié)構(gòu)可知,配合物X中配離子的配位原子為O、N,故答案為:O、N。
科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】I.已知2A2(g)+B2(g)2C(g) ΔH=-a kJ/mol(a>0),在一個有催化劑的固定容積的容器中加入2 mol A2和1 mol B2,在500 ℃時充分反應達到平衡后C的濃度為w mol/L,放出熱量b kJ。
(1)a________b(填“>”“=”或“<”)。
(2)若將反應溫度升高到700 ℃,該反應的平衡常數(shù)將________(填“增大”“減小”或“不變”)。
(3)若在原來的容器中,只加入2 mol C,500 ℃時充分反應達到平衡后, C的濃度________w mol/L(填“>”“=”或“<”)
(4)使該反應的反應速率增大,且平衡向正反應方向移動的操作是________。
a.及時分離出C氣體 b.適當升高溫度
c.增大B2的濃度 d.選擇高效的催化劑
II.氮化硅(Si3N4)是一種新型陶瓷材料,它可由石英與焦炭在高溫的氮氣流中,通過以下反應制得:3SiO2(s)+6C(s)+ 2N2(g) Si3N4(s)+ 6CO(g) △H>0 。
(1)該反應的平衡常數(shù)表達式為__________。
(2)達到平衡后,改變某一外界條件(不改變N2、CO的量),反應速率與時間t的關(guān)系如下圖。圖中t3時引起平衡移動的條件可以是____________________;t4時引起平衡移動的條件可以是____________________;圖中表示平衡混合物中CO的含量最高的一段時間是_________。
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】四種晶體的晶胞結(jié)構(gòu)如圖所示,下列有關(guān)說法正確的是( )
A.圖甲所示晶體的化學式為A3B4C
B.圖乙所示晶體中陰陽離子個數(shù)比為1:1
C.圖丙所示CaF2晶體中Ca2+配位數(shù)為4,F-配位數(shù)為8
D.圖丁所示晶體屬于簡單立方堆積
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【題目】金屬鉬在工業(yè)和國防建設(shè)中有重要的作用。鉬(Mo)的常見化合價為+6、+5、+4。由鉬精礦(主要成分是MoS2)可制備單質(zhì)鉬和鉬酸鈉晶體(Na2MoO4·2H2O),部分流程如圖1所示:
已知:鉬酸微溶于水,可溶于液堿和氨水。
回答下列問題:
(1)焙燒鉬精礦時發(fā)生的化學方程式為_____________________________。
(2)鉬精礦焙燒時排放的尾氣對環(huán)境的主要危害是___________________,請?zhí)岢鲆环N實驗室除去該尾氣的方法____________________________________。
(3)操作2的名稱為________。由鉬酸得到MoO3所用到的硅酸鹽材料儀器的名稱是________。
(4)焙燒鉬精礦所用的裝置是多層焙燒爐,圖2為各爐層固體物料的物質(zhì)的量的百分數(shù)(φ)。
①x=________。
②焙燒爐中也會發(fā)生MoS2與MoO3反應生成MoO2和SO2的反應,若該反應轉(zhuǎn)移6mol電子,則消耗的氧化劑的化學式及物質(zhì)的量分別為________、________。
(5)操作1中,加入碳酸鈉溶液充分反應后,堿浸液中c(MoO42-)=0.80mol·L1,c(SO42-)=0.04 mol·L1,在結(jié)晶前需加入Ba(OH)2固體以除去溶液中的SO42-。當BaMoO4開始沉淀時,SO42-的去除率是________。[Ksp(BaSO4)=1.1×1010、Ksp(BaMoO4)=4.0×108,溶液體積變化可忽略不計]
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【題目】某溫度下氣體反應達到化學平衡,平衡常數(shù)。恒容時,若溫度適當降低,F的濃度增加。下列說法正確的是
A.恒容時,向容器中充入稀有氣體,反應速率不變
B.增大c(A)、c(B),K增大
C.該反應的化學方程式為2E(g)+F(s)A(g)+2B(g)
D.正反應為放熱反應
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【題目】(14分)工業(yè)上常用蘇打燒結(jié)法提取自然界中的稀散元素硒(Se),我國科研人員自主設(shè)計的利用粗銅電解精煉所產(chǎn)生含硒化亞銅(Cu2Se)和碲化亞銅(Cu2Te)的陽極泥為原料,提取硒的某種工藝流程如圖所示。
回答下列問題:
(1)電解精煉銅時,電源的正極連接_______(填“粗銅”或“精銅”),陽極溶解銅的質(zhì)量__________(填“>”“=”或“<”)陰極析出銅的質(zhì)量。
(2)“燒結(jié)”時蘇打和硒化亞銅主要生成了Na2SeO3、Cu2O和CO2氣體,該反應的化學方程式為________________________________。“燒結(jié)”時生成了少部分Na2SeO4,寫出“還原”時反應的離子方程式____________。
(3)含硒燒結(jié)物浸取時,最佳加熱方式為________________,除去的物質(zhì)為___________(填化學式)。
(4)本工藝副產(chǎn)物TeO2用于制造紅外器件、聲光器件材料,可溶于強酸和強堿,并形成復鹽,則TeO2屬于______氧化物(填“酸性”“堿性”或“兩性”)。
(5)把硫酸工業(yè)第一步的產(chǎn)物SO2通入Na2SeO3溶液制備硒單質(zhì),寫出該反應的離子方程式_____________。若得到50 kg硒單質(zhì),至少需要___________kg質(zhì)量分數(shù)為90%的FeS2礦石。(結(jié)果保留一位小數(shù))
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】某三元羧酸 H3A 在表面活性劑、洗滌劑、潤滑劑等方面具有重要的地位。常溫時,向 10 mL 0.01 mol·L1 的 H3A 溶液中滴入 0.01 mol·L1 的 NaOH 溶液,H3A、H2A、HA2、A3的物質(zhì)的量分數(shù)與溶液的 pH 的關(guān)系如 圖所示。下列說法錯誤的是( )
A.該溫度下,H3A 的電離常數(shù) Ka1=10a
B.若 b=7,加入 20 mL NaOH 溶液時,溶液的 pH<7
C.NaOH 溶液的體積為 30 mL 時,溶液中:c(OH)=3c(H3A)+2c(H2A)+c(HA2)+c(H+)
D.反應 2H2AH3A+HA2在該溫度下的平衡常數(shù)K=10a-b
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【題目】下列事實一定能說明HF是弱酸的是( 。
①常溫下NaF溶液的pH大于7;②用HF溶液做導電性實驗,燈泡很暗;③等物質(zhì)的量濃度的HCl溶液和HF溶液與足量鋅粒反應,剛開始HCl溶液產(chǎn)生的氣泡快;④常溫下0.1mol/L的HF溶液pH為2.3;⑤HF能與Na2CO3溶液反應,產(chǎn)生CO2氣體;⑥HF與水能以任意比混溶;⑦1mol/L的HF水溶液能使紫色石蕊試液變紅;⑧pH=3的HF溶液稀釋至原體積的10倍,pH值減小0.6;⑨等物質(zhì)的量濃度的HCl溶液和HF溶液與足量鋅粒反應,產(chǎn)生氫氣的量一樣多
A.①③④B.①②③④⑤⑧C.②④⑧⑨D.①②⑦⑧
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