已知IBr、SiCl4、PCl3、CH3COCl、CH3COOOCCH3常溫下很容易與水反應(yīng)，反應(yīng)方式與鹽類(lèi)水解類(lèi)似。

（1）在所給5種物質(zhì)與水反應(yīng)的產(chǎn)物中，屬于最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的是________，屬于無(wú)氧酸的是________。

（2）分別將0.01mol這5種物質(zhì)放入0.1L水中反應(yīng)，結(jié)果使溶液的pH接近3的是________。

（1）H4SiO4HBr和HCl

(2)CH3COOOCCH3


解析:

根據(jù)水解反應(yīng)規(guī)律，寫(xiě)出有關(guān)反應(yīng)的化學(xué)方程式為：IBr+H2O====HIO+HBr，SiCl4+4H2O====H2SiO4↓+4HCl,PCl3+3H2O====H3PO3+3HCl,CH3COCl+H2OCH3COOH+HCl，

CH3COOOCCH3+H2O2CH3COOH。

上述反應(yīng)產(chǎn)物中屬于最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的是H4SiO4，屬于無(wú)氧酸的是HBr和HCl。5個(gè)反應(yīng)中前4個(gè)反應(yīng)都生成了強(qiáng)酸，只有第五個(gè)反應(yīng)中的CH3COOH是弱酸。0.01molCH3COOOCCH3與水反應(yīng)生成0.2molCH3COOH，形成的溶液約為0.1L，CH3COOH溶液濃度約為0.2mol·L-1。弱電解質(zhì)難電離，大約有1%的CH3COOH發(fā)生電離，溶液中的H+濃度約為0.002mol·L-1，pH接近3。

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相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

已知IBr的性質(zhì)與鹵素相似。的結(jié)構(gòu)為，CrO5的結(jié)構(gòu)為,次氟酸結(jié)構(gòu)為H—O—F。下列反應(yīng)屬于氧化還原反應(yīng)的是(    )

    ①I(mǎi)Br+H2O====HIO+HBr

    ②+2H+====S+SO2↑+H2O

    ③+4H2O2+2H+====2CrO5+5H2O

    ④2HFO====2HF+O2↑

   A.①②③④                       B.②③④                           C.④                              D.②

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

已知IBr、SiCl4、PCl3、CH3COCl、CH3COOOCCH3常溫下很容易與水反應(yīng)，反應(yīng)方式與鹽類(lèi)水解類(lèi)似。

（1）在所給5種物質(zhì)與水反應(yīng)的產(chǎn)物中，屬于最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的是________，屬于無(wú)氧酸的是________。

（2）分別將0.01 mol這5種物質(zhì)放入0.1 L水中反應(yīng)，結(jié)果使溶液的pH接近3的是________。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

工業(yè)上用“三氯氫硅還原法”制備純硅的工業(yè)流程如圖：

（1）石英砂的主要成分是         （填化學(xué)式），在制備粗硅時(shí)焦炭的作用是         。

（2）制備三氯氫硅的反應(yīng)：

Si（s）+3HCl（g）SiHCl3（g）+H2（g）

伴隨的副反應(yīng)為：        

Si（s）+4HCl（g） SiCl4（g）+2H2（g）

已知SiHCl3和SiCl4常溫下均為液體，工業(yè)上分離SiHCl3和SiCl4的操作方法

為         ；

寫(xiě)出SiHCl3（g）和HCl反應(yīng)生成SiCl4（g）和H2的熱化學(xué)方程式         。

（3）該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是         。

（4）實(shí)驗(yàn)室用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下圖（熱源及夾持裝置略去）.已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。

①裝置B中的試劑是         （填名稱(chēng)），裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是          。

②實(shí)驗(yàn)中先讓稀硫酸與鋅粒反應(yīng)一段時(shí)間后，再加熱C、D裝置的理由是         ，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為         。

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2011屆廣東省茂名市高三第一次模擬考試（理綜）化學(xué)部分 題型：實(shí)驗(yàn)題

工業(yè)上用“三氯氫硅還原法”制備純硅的工業(yè)流程如圖：

（1）石英砂的主要成分是        （填化學(xué)式），在制備粗硅時(shí)焦炭的作用是        。
（2）制備三氯氫硅的反應(yīng)：
Si（s）+3HCl（g）SiHCl3（g）+H2（g）
伴隨的副反應(yīng)為：        
Si（s）+4HCl（g） SiCl4（g）+2H2（g）
已知SiHCl3和SiCl4常溫下均為液體，工業(yè)上分離SiHCl3和SiCl4的操作方法
為        ；
寫(xiě)出SiHCl3（g）和HCl反應(yīng)生成SiCl4（g）和H2的熱化學(xué)方程式        。
（3）該生產(chǎn)工藝中可以循環(huán)使用的物質(zhì)是        。
（4）實(shí)驗(yàn)室用SiHCl3與過(guò)量H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下圖（熱源及夾持裝置略去）.已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng)，在空氣中易自燃。
①裝置B中的試劑是        （填名稱(chēng)），裝置C中的燒瓶需要加熱，其目的是         。

②實(shí)驗(yàn)中先讓稀硫酸與鋅粒反應(yīng)一段時(shí)間后，再加熱C、D裝置的理由是        ，裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為        。

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