Question

【題目】氟硼酸亞錫[Sn(BF4)2]用于糧食制品中防止有機酸的腐蝕。受熱或遇水易分解或水解，長期放置在空氣中易氧化。以氟硅酸(H2SiF6，二元強酸，易溶于水，其鈉鹽溶解度較小、硼酸[H3BO3]，一元弱酸，酸根為等為原料制備氟硼酸亞錫，同時得白炭黑(SiO2)和Na2SiF6等副產物的工藝流程如圖所示。

(1)硼酸在水溶液中的電離方程式_____。硼酸水溶液中水的電離程度_____(填“大于”或“小于”或“等于”)同溫度下純水的電離程度。

(2)流程中過程③由錫石制備錫一般工業(yè)上加入焦炭，該方法冶煉錫屬于哪種冶金方法_____。

A.熱分解法 B.電解法 C.熱還原法

(3)寫出反應④發(fā)生的主要反應的化學方程式_____。

(4)原料經反應①過濾后得殘留氟硅酸(H2SiF6)雜質的氟硼酸(HBF4)溶液，寫出反應①的化學方程式_____。

(5)離心分離前步驟②加NaCl的目的是_____。

(6)氟硼酸亞錫[Sn(BF4)2]的正確保存方法_____。

Answer 1

【答案】 大于 C Sn+2HBF4＝Sn(BF4)2+H2↑ 2H2SiF6+3H3BO4＝3HBF4+2SiO2↓+5H2O 使雜質H2SiF6生成難溶的Na2SiF6，便于分離 低溫，密封

【解析】

以氟硅酸(H2SiF4)、硼酸[H3BO4]等為原料制備氟硼酸鉀，由流程可知，H2SiF4、H3BO4中加水浸取，生成HBF4和SiO2，過濾除去SiO2，濾液中加氯化鈉，生成Na2SiF4沉淀，進一步除去溶液中含有少量H2SiF4，過濾濾得HBF4溶液，濾液中加氯化鉀生成KBF4沉淀，經過濾、洗滌、干燥后得固體KBF4，以此解答。

（1）H3BO4為一元弱酸，酸根為，所以硼酸的電離方程式為；由硼酸的電離方程式可知，硼酸的電離促進了水的電離，硼酸水溶液中水的電離程度大；

（2）加入焦炭做還原劑，故冶煉錫屬于熱還原法；

（3）反應④主要是錫和HBF4反應生成Sn(BF4)2和氫氣，方程式為：Sn+2HBF4＝Sn(BF4)2+H2↑；

（4）浸取時生成HBF4的化學方程式為2H2SiF6+3H3BO4＝3HBF4+2SiO2↓+5H2O；

（5）加氯化鈉，生成Na2SiF6沉淀，進一步除去溶液中含有少量H2SiF6生成難溶的Na2SiF6，便于分離，故答案為：使雜質H2SiF6生成難溶的Na2SiF6，便于分離；

（6）氟硼酸亞錫[Sn(BF4)2]受熱或遇水易分解或水解，長期放置在空氣中易氧化，所以應該在低溫，干燥，密封條件下保存，故答案為：低溫，密封。