A. | 孤電子對與成鍵電子對間的斥力大于成鍵電子對間的斥力 | |
B. | 孤電子對與成鍵電子對間的斥力小于成鍵電子對間的斥力 | |
C. | 孤電子對與成鍵電子對間的斥力等于成鍵電子對與成鍵電子對間的斥力 | |
D. | 題干中的數(shù)據(jù)不能說明孤電子對與成鍵電子對間的斥力與成鍵電子對與成鍵電子對間的斥力之間的大小關(guān)系 |
分析 CH4的中心原子沒有孤電子對,其鍵角為109°28′,NH3的中心原子含有1個孤電子對,鍵角為107°,H2O的中心原子含有2個孤電子對,O-H鍵間的鍵角為105°,
孤對電子對成鍵電子的排斥作用較強.
解答 解:已知:CH4的中心原子沒有孤電子對,其鍵角為109°28′,NH3的中心原子含有1個孤電子對,鍵角為107°,H2O的中心原子含有2個孤電子對,O-H鍵間的鍵角為105°,所以孤對電子對成鍵電子的排斥作用較強,即孤電子對與成鍵電子對間的斥力大于成鍵電子對間的斥力,故A正確.
故選A.
點評 本題考查了鍵角、分子的空間構(gòu)型,題目難度不大,明確孤對電子對成鍵電子的排斥作用較強是解題的關(guān)鍵,注意把握題目中所給的信息.
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:選擇題
A. | 過程①的提純是物理過程,過程②通過氧化還原反應(yīng)可產(chǎn)生2種單質(zhì) | |
B. | 過程⑤反應(yīng)后溶液呈強酸性,生產(chǎn)中需解決其對設(shè)備的腐蝕問題 | |
C. | 在過程④、⑥反應(yīng)中每氧化0.2 mol Br一需消耗2.24LCl2 | |
D. | 在過程③中將MgCl2.6H2O灼燒即可制得無水MgCl2 |
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A. | 對于二元酸H2X,若NaHX溶液呈酸性,則H2X為強酸 | |
B. | 升高溫度,Na2A溶液的pH增大,H2A為弱酸 | |
C. | 向燒堿溶液中通人CO2,一定存在c(Na+)=c(CO32-)+c(HCO3-)+c(H2C03) | |
D. | 常溫下,稀釋氫氟酸溶液,$\frac{c({F}^{-})}{c(HF)•c(O{H}^{-})}$增大 |
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A. | 關(guān)閉分液漏斗的活塞.將干燥管末端放人水中,微熱燒瓶,有氣泡從水中冒出,停止加熱后,燥管內(nèi)有水柱形成,表明裝置不漏氣 | |
B. | 若裝置用于制取氯氣并驗證其具有漂白性,則A中所用試劑為稀鹽酸,B中所用藥品為KMnO4固體,C中為品紅溶液 | |
C. | 若裝置用于制取SO2并驗證其具有漂白性,則A中所用試劑為濃硫酸,B中所用藥品為Na2SO3固體,C中為酸性KMnO4溶液 | |
D. | 若實驗時B中盛放固體NaOH,A中為濃氨水,C中為稀AgNO3溶液,則實驗過程中,C試管中看不到明顯的實驗現(xiàn)象 |
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A. | $\frac{1}{4}$<$\frac{n(X)}{n(Y)}$<$\frac{3}{2}$ | B. | $\frac{1}{4}$<$\frac{n(X)}{n(Y)}$<$\frac{1}{2}$ | C. | $\frac{1}{4}$<$\frac{n(X)}{n(Y)}$<4 | D. | $\frac{1}{2}$<$\frac{n(X)}{n(Y)}$<4 |
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