【題目】某學(xué)習(xí)小組用如下圖裝置測(cè)定鋁鎂合金中鋁的質(zhì)量分?jǐn)?shù)和鋁的相對(duì)原子質(zhì)量。

(1)A中試劑為_______________________。

(2)實(shí)驗(yàn)前,先將鋁鎂合金在稀硝酸中浸泡片刻,其目的是_____________________。

(3)檢查氣密性,將藥品和水裝入各儀器中,連接好裝置后,需進(jìn)行的操作還有:

①記錄C的液面位置;

②將B中剩余固體過濾、洗滌、干燥,稱重;

③待B中不再有氣體產(chǎn)生并恢復(fù)至室溫后,記錄C的液面位置;

④由AB中滴加足量試劑;

⑤檢查氣密性。上述操作的順序是______________(填序號(hào));記錄C的液面位置時(shí),除視線平視外,還應(yīng)____________________。

(4)B中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為_________________________________________。

(5)若實(shí)驗(yàn)用鋁鎂合金的質(zhì)量為a g ,測(cè)得氫氣體積為b mL(已換算為標(biāo)準(zhǔn)狀況)B中剩余固體質(zhì)量為c g,則鋁的相對(duì)原子質(zhì)量為______________。

(6)實(shí)驗(yàn)過程中,若未洗滌過濾所得的不溶物,則測(cè)得鋁的質(zhì)量分?jǐn)?shù)將____________(填偏大、偏小不受影響)。

【答案】NaOH溶液 除去鎂、鋁合金表面的氧化膜 ⑤①④③② 使DC兩管中液面相平 2Al+2NaOH+2H2O=2NaAlO2+3H2 偏小

【解析】

(1)AlNaOH溶液反應(yīng)生成氫氣,而Mg不能與NaOH溶液反應(yīng),A中裝有NaOH溶液;

(2)MgAl是比較活潑的金屬,與空氣中的氧氣反應(yīng)產(chǎn)生氧化鎂、氧化鋁薄膜;

(3)整個(gè)操作過程及原理是:檢查氣密性;記錄起始液面;加入堿反應(yīng);不產(chǎn)生氣體后,記錄C中的液面,兩者相減即為產(chǎn)生H2的量;最后稱得的固體即為Mg的質(zhì)量;在讀數(shù)時(shí)要注意D、C液面相平,否則氣體將受壓,造成讀數(shù)不準(zhǔn);

(4)B中發(fā)生反應(yīng)為:2Al+2NaOH+2H2O=2NaAlO2+3H2,參加反應(yīng)的鋁的質(zhì)量為(a-c)g,氫氣體積為bmL,設(shè)鋁的相對(duì)原子質(zhì)量為M,結(jié)合電子守恒計(jì)算;

(5)若未洗滌,會(huì)導(dǎo)致Mg表面有殘留離子,Mg質(zhì)量偏大。

(1)Mg、Al都是比較活潑的金屬,二者都可以與酸反應(yīng),但只有AlNaOH溶液反應(yīng)生成氫氣,Mg不能,因此A中試劑為NaOH溶液;

(2) Mg、Al都是比較活潑的金屬,兩種金屬與空氣接觸,在金屬表面產(chǎn)生了一層MgO、Al2O3保護(hù)膜,實(shí)驗(yàn)前,先將鋁鎂合金在稀硝酸中浸泡片刻,其目的除去鎂、鋁合金表面的氧化膜;

(3)實(shí)驗(yàn)時(shí)首先要檢查氣密性,記下量氣管中C的液面位置,再加入NaOH溶液開始反應(yīng),待反應(yīng)完畢并冷卻至室溫后,記錄量氣管中C的液面位置,最后將B中剩余固體過濾,洗滌,干燥,稱重,所以順序?yàn)棰茛佗堍邰冢繗夤茏x數(shù)時(shí)為使里面氣體壓強(qiáng)與外界大氣壓相等,必須使DC兩管中液面相平;

(4) BAlNaOH溶液發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為:2Al+2NaOH+2H2O=2NaAlO2+3H2;參加反應(yīng)的鋁的質(zhì)量為(a-c)g,氫氣體積為bmL,設(shè)鋁的相對(duì)原子質(zhì)量為M,由電子守恒可知,,解得M=;

(5)若未洗滌過濾所得的不溶物,c值偏大,則造成(a-c)變小,由鋁的質(zhì)量分?jǐn)?shù)×100%可知,實(shí)驗(yàn)過程中鋁的質(zhì)量分?jǐn)?shù)偏小。

練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

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【題目】瑞巴派特片是一種胃藥,其主要成分結(jié)構(gòu)如圖。 下列關(guān)于它的說法,正確的是

A.該物質(zhì)不能使酸性高錳酸鉀溶液褪色

B.該物質(zhì)的分子式為 C19H17ClN2O4

C.1 mol 該物質(zhì)能與 10mol 氫氣發(fā)生加成反應(yīng)

D.該物質(zhì)能水解,水解產(chǎn)物中含有氨基酸

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【題目】某只含鐵、氧兩種元素的樣品A,高溫時(shí)與足量的CO充分反應(yīng),生成的氣體被足量澄清石灰水吸收,測(cè)得沉淀的質(zhì)量與原樣品A質(zhì)量相等。如果A中只含兩種物質(zhì),則A中一定含有(  )

A. FeO B. Fe2O3 C. Fe3O4 D. Fe

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【題目】分別按下圖甲、乙所示裝置進(jìn)行實(shí)驗(yàn),圖中兩個(gè)燒杯里的溶液為同濃度的稀硫酸,乙中A為電流表。請(qǐng)回答下列問題:

1)以下敘述中,正確的是________(填字母)。

A.甲中鋅片是負(fù)極,乙中銅片是正極

B.兩燒杯中銅片表面均有氣泡產(chǎn)生

C.兩燒杯中溶液pH均增大

D.產(chǎn)生氣泡的速度甲中比乙中慢

E.乙的外電路中電流方向Zn→Cu

F.乙溶液中SO42-向銅片方向移動(dòng)

2)變化過程中能量轉(zhuǎn)化的主要形式:甲為________;乙為____________

3)在乙實(shí)驗(yàn)中,某同學(xué)發(fā)現(xiàn)不僅在銅片上有氣泡產(chǎn)生,而且在鋅片上也產(chǎn)生了氣體,分析原因可能是_______________________ 。

4)在乙實(shí)驗(yàn)中,如果把硫酸換成硫酸銅溶液,請(qǐng)寫出銅電極的電極反應(yīng)式__________________。當(dāng)電路中轉(zhuǎn)移0.2 mol電子時(shí),消耗負(fù)極材料的質(zhì)量為_________g。

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【題目】鋯及其化合物作為新材料,具有相當(dāng)重要的意義。氧氯化鋯(ZrOCl2)是制備鋯系列材料的一種重要中間產(chǎn)品,用鋯英砂(主要成分ZrSiO4)制備水合氧氯化鋯有多種方法,目前使用較多的是一酸一堿法,其主要流程如圖:

已知:①Na2ZrO3在強(qiáng)堿性的介質(zhì)中不溶解或水解;硅酸和原硅酸都具有吸附性。

回答下列問題:

(1)“堿燒過程中生成堿熔料的化學(xué)方程式為___。

(2)“水洗壓濾工藝可以將30~70%的硅除去,如圖表示的是各種工藝變化對(duì)水洗除硅率的影響,則為了提高除硅率應(yīng)采取的措施是___(任意回答兩條即可)

(3)硅的去除還有一部分是通過上述流程中的___工藝實(shí)現(xiàn)的,這一部分硅轉(zhuǎn)化成的物質(zhì)是___(填化學(xué)式)

(4)水洗壓濾的主要目的是除硅,則轉(zhuǎn)型壓濾的主要目的是除去___,轉(zhuǎn)型壓濾過程中生成ZrO(OH)2的離子方程式為___。

(5)操作M包括___、過濾、洗滌、干燥;上述工藝若不加改進(jìn),鋯的損失會(huì)比較大,為了減少鋯的損失,應(yīng)該改進(jìn)的措施是___。

(6)稱取3.220g產(chǎn)品(水合氧氯化鋯),溶于鹽酸配制成1000mL溶液,取25mL于錐形瓶中,加熱至90℃以上,并滴入2滴二甲酚橙指示劑,趁熱用0.0125molL-1EDTA標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定,當(dāng)溶液由紅色變?yōu)辄S色且半分鐘不褪色時(shí),消耗EDTA溶液20mL。計(jì)算水合氧氯化鋯的化學(xué)式為___(EDTAZrO2+在上述條件下以11比例反應(yīng))。

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【題目】已知:2NO(g)N2(g)+O2(g) △H=-181.5 kJ/mol。某科研小組嘗試?yán)霉腆w表面催化工藝進(jìn)行NO的分解。若用、分別表示N2、NOO2和固體催化劑,在固體催化劑表面分解NO的過程如圖所示。從吸附到解吸的過程中,能量狀態(tài)最低的是

A.B.C.D.無法確定

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【題目】元素單質(zhì)及其化合物有廣泛用途,請(qǐng)根據(jù)周期表中第三周期元素相關(guān)知識(shí)回答下列問題:

1)按原子序數(shù)遞增的順序(稀有氣體除外),以下說法正確的是___

a.原子半徑和離子半徑均減小 b.金屬性減弱,非金屬性增強(qiáng)

c.單質(zhì)的熔點(diǎn)降低 d.氧化物對(duì)應(yīng)的水合物堿性減弱,酸性增強(qiáng)

2)原子最外層電子數(shù)與次外層電子數(shù)相同的元素名稱為___,氧化性最弱的簡單陽離子是___

3)已知:

化合物

MgO

Al2O3

MgCl2

AlCl3

類型

離子化合物

離子化合物

離子化合物

共價(jià)化合物

熔點(diǎn)/℃

2800

2050

714

191

工業(yè)制鎂時(shí),電解MgCl2而不電解MgO的原因是___;制鋁時(shí),電解Al2O3而不電解AlCl3的原因是___

4)晶體硅(熔點(diǎn)1410℃)是良好的半導(dǎo)體材料.由粗硅制純硅過程如下:

Si(粗)SiCl4SiCl4(純)Si(純)

寫出SiCl4的電子式:___;在上述由SiCl4制純硅的反應(yīng)中,測(cè)得每生成1.12kg純硅需吸收akJ熱量,寫出該反應(yīng)的熱化學(xué)方程式___。

5)下列氣體不能用濃硫酸干燥,可用P2O5干燥的是___。

aNH3 bHI cSO2 dCO2

6KClO3可用于實(shí)驗(yàn)室制O2,若不加催化劑,400℃時(shí)分解只生成兩種鹽,其中一種是無氧酸鹽,另一種鹽的陰陽離子個(gè)數(shù)比為11.寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式:___。

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【題目】設(shè)NA表示阿伏加德羅常數(shù),下列敘述中正確的是

A.水的摩爾質(zhì)量為18g

B.常溫常壓下,48gO3含有的氧原子數(shù)為3NA

C.常溫常壓下,11.2L氧氣中所含有的原子數(shù)為NA

D.2.3g金屬鈉變?yōu)殁c離子時(shí)失去的電子數(shù)為NA

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:

【題目】根據(jù)下圖回答問題:

1)寫出濃硫酸和木炭粉在加熱條件下發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式:__________________

2)如果用圖中的裝置檢驗(yàn)上述反應(yīng)的全部產(chǎn)物,寫出下面標(biāo)號(hào)所表示的儀器中應(yīng)加入的試劑的名稱及其作用:

A中加入的試劑是_________________作用是________________________.

B中加入的試劑是_________________作用是________________________.

C中加入的試劑是 _________________ ,作用是除盡 ____________氣體.

D中加入的試劑是_________________作用是________________________.

3)實(shí)驗(yàn)時(shí),C中應(yīng)觀察到的現(xiàn)象是_______________________.

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