Question

單晶硅是信息產業(yè)中重要的基礎材料。通常用炭在高溫下還原二氧化硅制得粗硅（含鐵、鋁、硼、磷等雜質），粗硅與氯氣反應生成四氯化硅（反應溫度450～500℃ ），四氯化硅經提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關信息：① 四氯化硅遇水極易水解；② SIC14沸點為57.7℃ ，熔點為-70.0℃ 。請回答：

（1）寫出裝置A 中發(fā)生反應的離子方程式_______________。

（2）裝置C 中的試劑是___________；裝置F的作用是_______________；

裝置E 中的h 瓶需要冷卻的理由是_______________。

（3）裝置E 中h 瓶收集到的粗產物可通過精餾（類似多次蒸餾）得到高純度四氯化硅，精餾后的殘留物中含有鐵元素，為了分析殘留物中鐵元素的含量，先將殘留物預處理，使鐵元素還原成Fe2+，再用KMnO4標準溶液在酸性條件下進行氧化還原滴定。

① 反應的離子方程式：_______________。② 滴定前是否要滴加指示劑？_______________。（填“是”或“否”） ，請說明理由_______________。

③ 滴定前檢驗Fe3+ 是否完全還原的實驗操作是_______________。

Answer 1