Question

（1）工業(yè)清洗硅片上SiO₂（s）的反應(yīng)是：SiO₂（s）+4HF（g）═SiF₄（g）+2H₂O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ?mol^-1，△S（298.15K）=-75.8J?mol^-1?K^-1，△H和△S不隨溫度而變化，試求此反應(yīng)自發(fā)進(jìn)行的溫度范圍是

 

；
（2）對(duì)反應(yīng)2NO₂（g）═N₂O₄（g）△H＜0，在溫度T₁、T₂時(shí)，平衡體系N₂O₄的體積分?jǐn)?shù)隨壓強(qiáng)的變化曲線如圖所示，則T₁

 

T₂（填“＞”或“＜”）；增大壓強(qiáng)，平衡向

 

反應(yīng)方向移動(dòng)；B、C兩點(diǎn)的平衡常數(shù)B

 

C（填“＞”或“＜”）．

Answer 1

考點(diǎn)：體積百分含量隨溫度、壓強(qiáng)變化曲線

專題：

分析：（1）如果△G=△H-T△S＜0，則該反應(yīng)能自發(fā)進(jìn)行，據(jù)此計(jì)算溫度；
（2）相同壓強(qiáng)時(shí)，溫度越高，平衡向逆反應(yīng)方向移動(dòng)，則四氧化二氮的物質(zhì)的量減小，據(jù)此判斷溫度高低；
相同溫度時(shí)，增大壓強(qiáng)平衡向正反應(yīng)方向移動(dòng)，四氧化二氮的體積分?jǐn)?shù)減��；
溫度越高，平衡向逆反應(yīng)方向移動(dòng)，則化學(xué)平衡常數(shù)越小．

解答： 解：（1）如果△G=△H-T△S＜0，則該反應(yīng)能自發(fā)進(jìn)行，所以T＜

△H

△S

=

-94.0

75.8×10-3

K=1240K，
故答案為：＜1240K；
（2）相同壓強(qiáng)時(shí)，溫度越高，平衡向逆反應(yīng)方向移動(dòng)，則四氧化二氮的物質(zhì)的量減小，所以T₁＜T₂；
相同溫度時(shí)，增大壓強(qiáng)平衡向正反應(yīng)方向移動(dòng)，四氧化二氮的體積分?jǐn)?shù)減�。�
溫度越高，平衡向逆反應(yīng)方向移動(dòng)，則生成物濃度越小、反應(yīng)物濃度越大，所以化學(xué)平衡常數(shù)減小，T₁＜T₂，所以B的平衡常數(shù)大于C點(diǎn)，
故答案為：＜；正；＞．

點(diǎn)評(píng)：本題考查了溫度、壓強(qiáng)對(duì)化學(xué)平衡的影響，采用“定一議二”的方法判斷溫度大小，再結(jié)合平衡移動(dòng)方向確定化學(xué)平衡常數(shù)，注意：化學(xué)平衡常數(shù)只與溫度有關(guān)，與物質(zhì)濃度無關(guān)，為易錯(cuò)點(diǎn)．