Question

【題目】I.A、B、C、D均為中學化學常見的純凈物，A是單質，它們之間有如下的反應關系；

(1)若B是氣態(tài)氫化物，C、D是氧化物且會造成光化學煙霧污染，B與C在一定條件下反應生成的A是大氣的主要成分，寫出B-C的化學方程式：_______________。

(2)若D物質具有兩性，②、③反應均要用強堿溶液，④反應是通入過量的一種引起溫室效應的主要氣體，寫出A→C的離子方程式：______________________。

(3)若A是制作芯片常用材料，B為A單質的氧化物，C為水玻璃的主要成分.寫出A→C的離子方程式：__________________________。

(4)若A是應用最廣泛的金屬.④反應用到A，②、⑤反應均用到同一種非金屬單質，C的溶液用于蝕刻印刷銅電路板，寫出C→D的離子方程式：__________________。

(5)若A為淡黃色固體，C、D是氧化物，且是是造成酸雨的主要物質，B與C可反應生成A。寫出B完全燃燒的化學方程式：__________________________。

Answer 1

【答案】 4NH3+5O24NO+6H2O 2Al+2OH-+6H2O2[Al(OH)4]-+3H2↑ Si+2OH-+H2O=SiO32-+2H2↑ Fe+2Fe3+=3Fe2+ 2H2S+3O22SO2+2H2O

【解析】考查無機推斷，（1）C、D會造成光化學煙霧，氮的氧化物是造成光化學煙霧的主要原因，因此C和D是氮的氧化物，根據(jù)轉化關系，C為NO,D為NO2，因為A為單質，因此A為N2，B為NH3，B→C是氨的催化氧化，即化學反應方程式為4NH3＋5O24NO＋6H2O；（2）引起溫室效應的氣體為CO2，D是兩性，且是由C和CO2反應生成，因此D為Al(OH)3，A為Al，B為Al2O3，C為AlO2－，A生成C的離子反應方程式為2Al＋2OH－＋2H2O=2AlO2－＋3H2↑；（3）A是制作芯片常用材料，即A為Si，B為A的氧化物，即B為SiO2，C為水玻璃的成分，即C為Na2SiO3，A生成C的離子方程式Si＋2OH－＋H2O=SiO32－＋2H2↑；（4）應用最廣泛的金屬是鐵，即A為Fe，C的溶液用于刻蝕印刷銅電路板，因此C為FeCl3，②和⑤用同一種非金屬單質，④反應用Fe，因此D為FeCl2，用到的非金屬單質為Cl2，即C生成D的離子方程式為Fe＋2Fe3＋=3Fe2＋；（5）A為淡黃色固體單質，即A為S，C和D是氧化物，造成酸雨的主要物質，即為SO2和SO3，S燃燒轉化成SO2，即C為SO2，D為SO3，SO2和B反應生成S，即B為H2S，H2S完全燃燒的化學方程式為：2H2S+3O22SO2+2H2O。