Question

【題目】超純氫氟酸主要用作芯片材料清洗和蝕刻。回答下列問題：

(1)氫氟酸可保存在聚四氟乙烯容器中，聚四氟乙烯的結(jié)構(gòu)簡式為_____________________。

(2)工業(yè)氫氟酸生產(chǎn)超純氫氟酸時(shí)，需經(jīng)除雜質(zhì)(AsF3)、氣化、洗滌等步驟。

①除去AsF3的反應(yīng)為4AsF3＋4KMnO4＝4MnO4＋2As2O5＋4KF＋3O2↑，該反應(yīng)的氧化產(chǎn)物為___________。

②CoF3可與H2O反應(yīng)生成HF，該反應(yīng)的化學(xué)方程式為___________________________(CoF3還原為CoF2)

③在無水氟化氫汽化時(shí)，可向發(fā)生裝置中摻入含有F2，NF3和OF2中的一種或多種的含氟氣體，以氧化雜質(zhì)。NF3的電子式為_________；OF2中氧元素的化合價(jià)為___________，OF2可由F2與稀NaOH溶液反應(yīng)制取，該反應(yīng)的離子方程式為____________________________。

Answer 1

【答案】 As2O5、O2 4CoF3＋2H2O=4HF↑＋4CoF2＋O2↑ +2 2F2＋2OH－=OF2↑＋2F－＋H2O

【解析】

(1)聚四氟乙烯的單體為CF2=CF2，CF2=CF2發(fā)生加聚反應(yīng)得到；

(2)①根據(jù)還原劑發(fā)生氧化反應(yīng)，得到產(chǎn)物是氧化產(chǎn)物，還原劑化合價(jià)升高，據(jù)此分析；

②根據(jù)氧化還原反應(yīng)的規(guī)律進(jìn)行分析；

③NF3的電子式類似NH3，F的非金屬性強(qiáng)于O，根據(jù)氧化還原反應(yīng)規(guī)律書寫反應(yīng)方程式，據(jù)此分析；

(1)聚四氟乙烯的單體是CF2=CF2，CF2=CF2通過加聚反應(yīng)得到聚四氟乙烯，即四氟乙烯的結(jié)構(gòu)簡式為；

答案：；

(2)①氧化產(chǎn)物是還原劑被氧化得到，還原劑在反應(yīng)中化合價(jià)升高，根據(jù)反應(yīng)方程式，As的化合價(jià)由＋3→＋5價(jià)，化合價(jià)升高，As2O5為氧化產(chǎn)物，O部分化合價(jià)由－2價(jià)→0價(jià)，化合價(jià)升高，O2也是氧化產(chǎn)物；

答案：As2O5、O2；

②CoF3還原成CoF2，Co的化合價(jià)降低，應(yīng)有元素的化合價(jià)升高，O2－的還原性強(qiáng)于F－，即CoF3將H2O中O氧化成O2，因此反應(yīng)方程式為4CoF3＋2H2O=4HF↑＋4CoF2＋O2↑；

答案：4CoF3＋2H2O=4HF↑＋4CoF2＋O2↑；

③NF3屬于共價(jià)化合物，其電子式為；F的非金屬性強(qiáng)于O，F的化合價(jià)為－1價(jià)，則O的化合價(jià)為＋2價(jià)；OF2可由F2與NaOH反應(yīng)，F2作氧化劑，將－2價(jià)O氧化成OF2，本身被還原成F－，即離子反應(yīng)方程式為2F2＋2OH－=OF2↑＋2F－＋H2O；

答案：；+2；2F2＋2OH－=OF2↑＋2F－＋H2O。