【題目】下列四位科學(xué)家中,首先提出原子有核結(jié)構(gòu)模型的是
A.盧瑟福B.波爾C.湯姆生D.道爾頓
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】下列離子方程式書寫正確的是( )
A. 金屬鈉加入到CuSO4溶液中:2Na+Cu2+===Cu+2Na+
B. 將鋁片打磨后置于NaOH溶液中:2Al+2OH-===2AlO+H2↑
C. 向明礬溶液中加入過量的Ba(OH)2溶液:Al3++2SO+2Ba2++4OH- === 2BaSO4↓+AlO+2H2O
D. 向Ba(AlO2)2溶液中通入少量CO2:2AlO+CO2+3H2O===2Al(OH)3↓+CO
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】化學(xué)與生活息息相關(guān).下列敘述正確的是( 。
A.土豆的淀粉經(jīng)水解可變成酒
B.油脂經(jīng)水解可變成葡萄糖
C.鮮榨橙汁遇到碘水會變藍
D.饅頭越嚼越甜
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
【題目】通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅,粗硅(合鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì))與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450-500℃),四氧化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置示意圖。(D的硬質(zhì)玻璃管中盛裝粗硅)
相關(guān)信息如下:a.四氧化硅遇水極易反應(yīng)生成硅酸和氯化氫;
b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;
c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
物質(zhì) | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸點/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
熔點/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — |
升華溫度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
請回答下列問題:
(1)寫出用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅的化學(xué)方程式_________________________。
(2)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式__________________________________。
(3)裝置A中g(shù)管的作用是_________________;裝置C中的試劑是____________;
(4)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過多次蒸餾得到高純度四氯化硅,蒸餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是________(填寫元素符號)。
(5)寫出尾氣處理裝置中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式___________________________。
(6)本題實驗裝置中有一明顯的不足之處,請簡述你的改進方案及理由: ___________。
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【題目】20世紀(jì)初,通過a粒子散射實驗提出帶核的原子結(jié)構(gòu)模型的科學(xué)家是( )
A. 盧瑟福 B. 舍勒 C. 湯姆生 D. 玻爾
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【題目】下列過程中,屬于非自發(fā)過程的是( )
A.N2和O2混合
B.常溫、常壓下,石墨轉(zhuǎn)化為金剛石
C.H2和O2化合生成H2O
D.C+O2 CO2
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【題目】下列物質(zhì)溶于水后不能電離的是
A.氯化氫(HCl)B.酒精(C2H5OH)C.氯化鈉(NaCl)D.氫氧化鋇[Ba(OH)2]
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【題目】在甲、乙、丙三個不同密閉容器中按不同方式投料,一定條件下發(fā)生反應(yīng)(起始溫度和起始體積相同):N2(g)+3H2(g)2NH3(g) △H<0,相關(guān)數(shù)據(jù)如下表所示:
容器 | 甲 | 乙 | 丙 |
相關(guān)條件 | 恒溫恒容 | 絕熱恒容 | 恒溫恒壓 |
反應(yīng)物投料 | lmolN2、3molH2 | 2molNH3 | 2molNH3 |
平衡時容器體積 | V甲 | V乙 | V丙 |
反應(yīng)的平衡常數(shù)K | K甲 | K乙 | K丙 |
平衡時NH3的濃度/mol/L | c甲 | c乙 | c丙 |
平衡時NH3的反應(yīng)速率/mol/(L·min) | v甲 | v乙 | v丙 |
下列說法正確的是
A. V甲>V丙 B. K乙>K丙 C. c乙>c甲 D. V甲=V丙
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【題目】反應(yīng)2KMnO4+16HCl(濃)═2KCl+2MnCl2+5Cl2↑+8H2O.下列敘述不正確的是( 。
A. 氧化劑為KMnO4,其中Cl元素被還原
B. 若有0.5molCl2生成,則反應(yīng)中有NA個電子轉(zhuǎn)移
C. 濃HCl在反應(yīng)中起酸性和還原性的作用
D. 若消耗0.4mol氧化劑,則被氧化的還原劑的物質(zhì)的量為2mol
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