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12.已知相同溫度下CH3COOH和NH3•H2O的電離常數相等,現向10mL濃度為0.1mol•L-1的CH3COOH溶液中滴加相同濃度的氨水,在滴加過程中( �。�
A.水的電離程度始終增大
B.c(NH4+):c(NH3•H2O)始終減小
C.c(CH3COOH)與c(CH3COO?)之和始終保持不變
D.當加入氨水的體積為10mL時,c(NH4+)=c(CH3COO-

分析 A.開始時,溶液的酸性逐漸減弱,水的電離程度逐漸增大,當氨水過量后,溶液中氫氧根離子濃度逐漸增大,水的電離程度逐漸減��;
B.根據一水合氨的電離平衡常數可知,該比值與氫氧根離子成反比,電解氨水的過程中,溶液中氫氧根離子濃度逐漸增大;
C.根據物料守恒,醋酸和醋酸根離子的物質的量之和不變,但是溶液體積增大,二者的濃度之和逐漸減��;
D.CH3COOH和NH3•H2O的電離常數相等,氨水與醋酸的濃度、體積相等時,溶液顯示中性,根據電荷守恒可知c(NH4+)=c(CH3COO-).

解答 解:A.酸溶液、堿溶液抑制了水的電離,溶液顯示中性前,隨著氨水的加入,溶液中氫離子濃度逐漸減小,水的電離程度逐漸增大;當氨水過量后,隨著溶液中氫氧根離子濃度逐漸增大,水的電離程度逐漸減小,所以滴加過程中,水的電離程度先增大后減小,故A錯誤;
B.當向CH3COOH溶液中滴加相同濃度的氨水,開始時溶液為CH3COOH和CH3COONH4的混合物,由CH3COONH4的水解常數Kh=cH+cNH3H2OcNH4+,隨著氨水的加入,c(H+)逐漸減小,Kh不變,則cNH4+cNH3H2O變小,當加氨水至溶液顯堿性時,氨水的電離常數Kb=cOHcNH4+cNH3H2O,c(OH-)與氫離子濃度成反比,隨著氨水的滴入,氫氧根離子濃度逐漸增大,電離常數K不變,所以cNH4+cNH3H2O逐漸減小,所以cNH4+cNH3H2O始終減小,故B正確;
C.n(CH3COOH)與n(CH3COO-)之和為0.001mol,始終保持不變,由于溶液體積逐漸增大,所以c(CH3COOH)與c(CH3COO-)之和逐漸減小,故C錯誤;
D.當加入氨水的體積為10mL時,醋酸和一水合氨的物質的量相等,由于二者的電離常數相等,所以溶液顯示中性,c(H+)=c(OH-),根據電荷守恒可知:c(NH4+)=c(CH3COO-),故D正確;
故選BD.

點評 本題考查了酸堿混合時溶液定性判斷及溶液酸堿性與溶液pH的關系,題目難度中等,注意掌握溶液酸堿性與溶液pH的關系,明確根據電荷守恒、物料守恒、鹽的水解比較溶液中離子濃度大小的方法.

練習冊系列答案
相關習題

科目:高中化學 來源: 題型:選擇題

2.下列關于0.5mol•L-1NaHCO3溶液的說法正確的是( �。�
A.溶質的電離方程式為NaHCO3=Na++H++CO32-
B.加水稀釋后,n(H+)與n(OH-)的乘積變大
C.離子濃度關系:c(Na+)+c(H+)=c(OH-)+c(HCO3-)+c(CO32-
D.溫度升高,c(HCO3-)增大

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科目:高中化學 來源: 題型:選擇題

3.下列化合物中既有離子鍵又有共價鍵的是( �。�
A.MgCl2B.NaOHC.HBrD.N2

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科目:高中化學 來源: 題型:解答題

20.如圖方框中的每一字母各代表一種物質或溶液,它們在一定條件下發(fā)生反應的關系如圖1(圖中略去了一些物質).已知A、D是兩種常見的金屬,B是紅棕色金屬氧化物,C是一種熔點很高的金屬氧化物.
根據示意圖回答下列問題:
(1)寫出下列物質的化學式:BFe2O3,KAl(OH)3
(2)寫出H→G的離子方程式2Fe2++H2O2+2H+=2Fe3++2H2O;
(3)寫出N→M化學方程式4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3;
(4)實驗室在配制H的溶液時,往往要加入少量的D,其作用是防止Fe2+被氧化為Fe3+
(5)檢驗G中的陽離子的常用方法和現象是取少量H溶液,加入幾滴KSCN溶液,溶液顯紅色.
(6)取圖1中一定量F溶液,向其中逐滴加入NaOH溶液直至過量.如圖2所示示意圖能表示實驗過程中沉淀的質量隨NaOH溶液體積變化的是(填序號)⑤.
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科目:高中化學 來源: 題型:解答題

7.FeCl3在現代工業(yè)生產中應用廣泛.某化學研究性學習小組模擬工業(yè)流程制備無水FeCl3,再用副產品FeCl3溶液吸收有毒的H2S.經查閱資料得知:無水FeCl3在空氣中易潮解,加熱易升華.他們設計了制備無水FeCl3的實驗方案,裝置示意圖(加熱及夾持裝置略去)及操作步驟如下:

①檢驗裝置的氣密性;
②通入干燥的Cl2,趕盡裝置中的空氣
③用酒精燈在鐵屑下方加熱至反應完成;
④…
⑤體系冷卻后,停止通入Cl2,并用干燥的H2趕盡Cl2,將收集器密封.
請回答下列問題:
(1)裝置A中反應的化學方程式為2Fe+3Cl2 _2FeCl3
(2)步驟③加熱后,生成的煙狀FeCl3大部分進入收集器,少量沉積在反應管A右端,要使沉積的FeCl3進入收集器,步驟④操作是在沉積的FeCl3固體下方加熱.
(3)裝置B中冷水浴的作用為冷卻,使FeCl3沉積,便于收集產品;
(4)裝置D中FeCl2全部反應后,因失去吸收Cl2的作用而失效,寫出檢驗FeCl2是否失效的試劑是KMnO4溶液或K3[Fe(CN)6]溶液.
(5)在虛線框中畫出尾氣吸收裝置E并注明試劑.
(6)該組同學用裝置D中的副產品FeCl3溶液吸收H2S,得到單質硫FeCl3與H2S反應的離子方程式為2Fe3++H2S=2Fe2++S↓+2H+
闂傚倸鍊搁崐鎼佸磹閹间礁纾归柟闂寸绾惧綊鏌熼梻瀵割槮缁炬儳缍婇弻鐔兼⒒鐎靛壊妲紒鐐劤缂嶅﹪寮婚敐澶婄闁挎繂鎲涢幘缁樼厱闁靛牆鎳庨顓㈡煛鐏炲墽娲存鐐达耿閹崇娀顢楁径瀣撴粓姊绘担瑙勫仩闁告柨绉堕幑銏ゅ礃椤斿槈锕傛煕閺囥劌鐏犻柛鎰ㄥ亾婵$偑鍊栭崝锕€顭块埀顒傜磼椤旂厧顣崇紒杈ㄦ尰閹峰懘骞撻幒宥咁棜婵犵數濮伴崹鐓庘枖濞戙埄鏁勯柛鏇ㄥ幗瀹曟煡鏌涢埄鍐姇闁绘挸绻橀弻娑㈩敃閿濆洨鐣洪梺闈╃稻濡炰粙寮诲☉銏℃櫜闁告侗鍠涚涵鈧紓鍌欐祰妞村摜鏁敓鐘茬畺闁冲搫鎳忛ˉ鍫熺箾閹寸偛绗氶柣搴濆嵆濮婄粯鎷呴崨濠冨創闂佹椿鍓欓妶绋跨暦娴兼潙鍐€妞ゆ挾濮寸粊锕傛⒑绾懏褰х紒鐘冲灩缁鈽夐姀鈾€鎷婚梺鍓插亞閸犳捇鍩婇弴鐔翠簻闁哄倸鐏濋顓熸叏婵犲嫮甯涢柟宄版嚇瀹曘劍绻濋崒娑欑暭婵犵數鍎戠徊钘壝洪敃鈧—鍐╃鐎n偅娅滈梺缁樺姈濞兼瑧娆㈤悙鐑樼厵闂侇叏绠戦崝锕傛煥閺囩偛鈧綊鎮¢弴銏$厸闁搞儯鍎辨俊濂告煟韫囨洖校濞e洤锕、鏇㈡晲韫囨埃鍋撻崸妤佺厸閻忕偛澧藉ú鎾煃閵夘垳鐣垫鐐差儏閳规垿宕堕埡鈧竟鏇犵磽閸屾艾鈧绮堟笟鈧、鏍川椤栨稑搴婇梺鍦濠㈡﹢鎮″鈧弻鐔告綇妤e啯顎嶉梺绋匡功閸忔﹢寮婚妶鍥ф瀳闁告鍋涢~顐︽⒑閸涘﹥鐓ラ柟璇х磿閹广垹鈽夊锝呬壕婵炴垶鐟$紓姘舵煟椤撴粌鈧洟婀佸┑鐘诧工缁ㄨ偐鑺辩紒妯镐簻闁哄浂浜炵粙鑽ょ磼缂佹ḿ绠撴い顐g箞椤㈡﹢鎮㈤崜韫埛闂傚倸鍊烽懗鍓佸垝椤栨稓浠氶梺璇茬箰缁绘垿鎮烽埡浣烘殾闁规壆澧楅崐鐑芥煟閹寸們姘跺箯濞差亝鐓熼幖绮瑰墲鐠愨€斥攽椤旂偓鏆┑鈩冩尦瀹曟﹢鍩¢埀顒傛崲閸℃稒鐓熼柟閭﹀幗缂嶆垶绻涢幖顓炴灍妞ゃ劊鍎甸幃娆忣啅椤旂厧澹夋俊鐐€ф俊鍥ㄦ櫠濡ゅ懎绠氶柡鍐ㄧ墛閺呮煡鏌涢妷鈺婃閹兼潙锕濠氬磼濞嗘帒鍘$紓渚囧櫘閸ㄨ泛鐣峰┑瀣櫇闁稿本姘ㄩˇ顓炩攽閻愬弶顥為柟绋挎憸缁牊寰勯幇顓犲帾闂佸壊鍋呯换鍐夐幘瓒佺懓饪伴崟顓犵厑闂侀潧娲ょ€氫即鐛Ο鍏煎磯闁烩晜甯囬崹浠嬪蓟濞戞鐔兼惞鐟欏嫭鍠栨俊鐐€戦崝濠囧磿閻㈢ǹ绠栨繛鍡樻尭缁犵敻鏌熼悜妯诲鞍妞ゆ柨瀚板娲礈瑜忕敮娑㈡煟濡ゅ啫鈻堢€殿喛顕ч埥澶娢熼柨瀣垫綌闂備礁鎲¢〃鍫ュ磻閻愮儤鍊堕柛顐ゅ枔缁犻箖鎮楅悽鐧诲綊顢撳畝鍕厱婵炲棗绻愰弳娆愩亜椤愩垻绠婚柟鐓庣秺瀹曠兘顢橀悪鍛簥濠电姵顔栭崰妤呫€冮崨顓囨稑鈻庨幘鏉戜患闂佸壊鍋呭ú姗€鍩涢幋鐘电=濞达絿娅㈡笟娑欑箾閸喐顥堥柡灞诲姂瀵挳濡搁妶澶婁粣闂備胶绮笟妤呭窗濞戞氨涓嶆繛鎴炃氬Σ鍫熺箾閸℃ê鐏ュ┑顔芥倐閺岋絾鎯旈敍鍕殯闂佺ǹ楠稿畷顒冪亱閻庡厜鍋撻柛鏇ㄥ亞椤斿棗鈹戦悙鍙夆枙濞存粍绻堥崺娑㈠箣閿旂晫鍘卞┑鐐村灦閿曨偊宕濋悢铏圭<闁绘ǹ娅曞畷宀勬煙椤旂瓔娈旀い顐g箞閹剝鎯旈敍鍕綁闂傚倷娴囧銊х矆娴h櫣鐭撻柣鐔煎亰閸ゆ洘銇勯弴妤€浜鹃悗瑙勬礃鐢帡銈导鏉戞そ闁告劦浜滅花銉╂⒒閸屾艾鈧绮堟笟鈧獮鏍敃閵堝棗浠忓銈嗗姧缁犳垹澹曢崸妤佺厵闁诡垱婢樿闂佺ǹ顑傞弲婊呮崲濞戞﹩鍟呮い鏃囧吹閸戝綊姊虹紒妯诲鞍缂佸鍨垮﹢渚€姊洪幐搴g畵闁瑰啿绻橀獮澶愬箹娴e憡鐎梺鍓插亝閹﹪寮崼鐔蜂汗闂傚倸鐗婄粙鎰垝鐠鸿 鏀介柣鎰级閳绘洟鏌涘▎蹇撴殻濠碘€崇摠缁楃喖鍩€椤掆偓椤曪絾绂掔€e灚鏅i梺缁樺姍濞佳囩嵁閹扮増鈷掑ù锝呮啞閸熺偤鏌涢弮鈧崹鍨暦濠靛棭鍚嬪璺侯儏閳ь剙鐖奸弻娑㈩敃閻樻彃濮曢梺绋匡功閺佸骞冨畡鎵虫瀻闊洦鎼╂禒鍓х磽娴f彃浜鹃梺鍛婂姀閺傚倹绂嶅⿰鍫熺厪濠电偛鐏濋崝鐢告椤掑澧い銊e劦閹瑧鎷犺閸氼偊鎮楀▓鍨灆缂侇喗鐟╅妴浣割潨閳ь剟骞冨▎鎾搭棃婵炴垶岣块鍥⒒閸屾艾鈧绮堟笟鈧獮澶愭晸閻樿尙顦梺纭呮彧缁犳垹绮堟径鎰婵烇綆鍓欐俊鑲╃棯閹呯Ш闁哄被鍔戦幃銈夊磼濞戞﹩浼�

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科目:高中化學 來源: 題型:選擇題

17.下列原子中未成對電子最多的是( �。�
A.CB.OC.ND.Cl

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科目:高中化學 來源: 題型:解答題

4.三氯氫硅(SiHCl3)是生產多晶硅的主要原料.由粗硅制三氯氫硅的反應如下:
反應的熱化學方程式平衡常數(300℃)
主反應Si(s)+3HCl(g)?SiHCl3(g)+H2(g)△H=-210kJ•mol-1K1(mol•L-1-1
副反應Si(s)+4HCl(g)?SiHCl4(g)+2H2(g)△H=-240kJ•mol-1K2(mol•L-1-1
回答下列問題:
(1)寫出SiHCl3的結構式
(z) SiHCl3,在NaOH溶液中劇烈反應放出H2,該反應的化學方程式為SiHCl3+5NaOH=3NaCl+Na2SiO3+H2↑+2H2O.
(3)硅的平衡轉化率與投料比nHClnSi的關系如圖,則圖中溫度T1、T2、T3的大小順序為T1>T2>T3
(4)平衡時,cSiHCl3cSiCl4的值a隨著cH2cHCl的值b的變化而變化.則\frac{a}=K1/K2(用含Kl、K2的代數式表示);根據關系式,工業(yè)上用H2適當稀釋HCl來提高SiHCl3的純度. 請用平衡移動原理加以解釋通入H2后兩個平衡均逆向移動,但對副反應影響更大,所得產物中副產物
的含量減小,所以SiHCl3的純度提高.
(5)也可用H2還原SiCl4來制取SiHCl3.300℃時該反應的熱化學方程式為H2(g)+SiCl4(g)=SiHCl3(g)+HCl(g)△H=+30kJ•mol-1
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科目:高中化學 來源: 題型:選擇題

1.下列物質中,不能通過單質直接化合生成的是( �。�
A.HClB.MgOC.SO3D.CO2

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科目:高中化學 來源: 題型:選擇題

2.下列物質之間的轉化,需要加入適當的氧化劑才能完成的是( �。�
A.SO3→H2SO4B.HNO3→NOC.Fe→FeCl2D.Cl2→HClO

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同步練習冊答案
闂傚倸鍊搁崐鎼佸磹閹间礁纾归柟闂寸绾惧綊鏌熼梻瀵割槮缁炬儳缍婇弻鐔兼⒒鐎靛壊妲紒鐐劤缂嶅﹪寮婚敐澶婄闁挎繂鎲涢幘缁樼厱闁靛牆鎳庨顓㈡煛鐏炶鈧繂鐣烽锕€唯闁挎棁濮ら惁搴♀攽閻愬樊鍤熷┑顔炬暬閹虫繃銈i崘銊у幋闂佺懓顕崑娑氱不閻樼粯鈷戠紒瀣皡閺€缁樸亜閵娿儲顥㈡鐐茬墦婵℃瓕顦柛瀣崌濡啫鈽夊▎蹇旀畼闁诲氦顫夊ú鏍ь嚕閸洖绠為柕濞垮労濞撳鎮归崶顏勭处濠㈣娲熷缁樻媴閾忕懓绗℃繛鎾寸椤ㄥ﹤鐣烽弶搴撴婵ê褰夌粭澶娾攽閻愭潙鐏﹂懣銈嗕繆閹绘帞澧涚紒缁樼洴瀹曞崬螣閸濆嫷娼旀俊鐐€曠换鎺楀窗閺嵮屾綎缂備焦蓱婵挳鏌ら幁鎺戝姢闁靛棗锕娲閳哄啰肖缂備胶濮甸幑鍥偘椤旇法鐤€婵炴垶鐟﹀▍銏ゆ⒑鐠恒劌娅愰柟鍑ゆ嫹 闂傚倸鍊搁崐鎼佸磹閹间礁纾归柟闂寸绾惧綊鏌熼梻瀵割槮缁炬儳缍婇弻鐔兼⒒鐎靛壊妲紒鐐劤缂嶅﹪寮婚悢鍏尖拻閻庨潧澹婂Σ顔剧磼閻愵剙鍔ょ紓宥咃躬瀵鎮㈤崗灏栨嫽闁诲酣娼ф竟濠偽i鍓х<闁绘劦鍓欓崝銈囩磽瀹ュ拑韬€殿喖顭烽幃銏ゅ礂鐏忔牗瀚介梺璇查叄濞佳勭珶婵犲伣锝夘敊閸撗咃紲闂佺粯鍔﹂崜娆戠矆閸愨斂浜滈柡鍥ф濞层倝鎮″鈧弻鐔告綇妤e啯顎嶉梺绋款儐閸旀瑩寮诲☉妯锋瀻闊浄绲炬晥闂備浇顕栭崰妤呮偡瑜忓Σ鎰板箻鐎涙ê顎撻梺鍛婄箓鐎氱兘鍩€椤掆偓閻倿寮诲☉銏犖╅柕澹啰鍘介柣搴㈩問閸犳牠鈥﹂柨瀣╃箚闁归棿绀侀悡娑㈡煕鐏炲墽鐓紒銊ょ矙濮婄粯鎷呴崨闈涚秺瀵敻顢楅崒婊呯厯闂佺鎻€靛矂寮崒鐐寸叆闁绘洖鍊圭€氾拷