【題目】如圖是用稀硝酸和Cu制取少量NO并驗證氮氧化合物性質的裝置。下列說法不正確的是(　　 )

A. 吸收劑可以是NaOH溶液

B. 試管上部的氣體始終為無色

C. 小試管中溶液最終呈藍色

D. 試紙最終呈藍色

【答案】B

【解析】銅和稀硝酸反應生成硝酸銅、一氧化氮和水，反應的化學方程式為3Cu+8H++2NO3-=3Cu2++2NO↑+4H2O，2NO+O2=2NO2，無色氣體變化為紅棕色氣體二氧化氮，可以用堿溶液吸收，A．上述分析可知得到的氣體主要是NO2和NO，可以被氫氧化鈉溶液吸收，所以吸收劑可以是NaOH溶液，選項A正確；B．銅和稀硝酸反應生成硝酸銅、一氧化氮和水，一氧化氮和試管中的氧氣反應生成紅棕色氣體二氧化氮，選項B不正確；C．銅和稀硝酸反應得到溶液為硝酸銅溶液，溶液為藍色，選項C正確；D．生成的一氧化氮和氧氣反應生成二氧化氮紅棕色氣體，二氧化氮具有氧化性，和碘化鉀溶液反應生成碘單質，碘單質遇到淀粉變藍色，選項D正確；答案選B。

練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】某溶液中 Cl- 、Br- 、I - 三者物質的量之比為1∶2∶3，通入一定量的氯氣，當反應后，該比值為3∶2∶1，則反應的氯氣和原溶液中I-的物質的量之比為

A.3∶2B.2∶3C.1∶2D.1∶3

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】化合物AX3和單質X2在一定條件下反應可生成化合物AX5 ． 回答下列問題．
（1）已知AX3的熔點和沸點分別為﹣93.6℃和76℃，AX5的熔點為167℃．室溫時AX3與氣體X2反應生成lmol AX5 ， 放出熱量123.8kJ．該反應的熱化學方程式為 ．
（2）反應AX3（g）+X2（g）AX5（g）在容積為10L的密閉容器中進行．起始時AX3和X2均為0.2mol．反應在不同條件下進行，反應體系總壓強隨時間的變化如圖所示．
①下列不能說明反應達到平衡狀態(tài)的是 ．
A．混合氣體的平均相對分子質量保持不變
B．混合氣體密度保持不變
C．體系中X2的體積分數(shù)保持不變
D．每消耗1molAX3同時消耗1molAX5
②計算實驗a從反應開始至達到平衡時的反應速率v（AX5）=（保留2位有效數(shù)字）．
③圖中3組實驗從反應開始至達到平衡時的反應速率v（AX5）由大到小的次序為（填實驗序號）；與實驗a相比，其他兩組改變的實驗條件及判斷依據(jù)是：b、c ． 該反應在實驗a和實驗c中的化學平衡常數(shù)的大小關系是KaKc（填“＞、＜或=”），其中Kc=（保留小數(shù)點后1位）．

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】氧化還原反應在生產(chǎn)生活中有著重要的應用．請按要求寫出相應的方程式．
（1）將含SO2的廢氣通入含F(xiàn)e2+（催化劑）的溶液中，常溫下可使SO2轉化為SO24﹣ ， 其總反應為2SO2+O2+2H2O=2H2SO4 ． 上述總反應分兩步進行，第一步反應的離子方程式為4Fe2++O2+4H+=4Fe3++2H2O，寫出第二步反應的離子方程式： ．
（2）pH=3.6時，碳酸鈣與硫酸鋁反應可制備堿式硫酸鋁[Al2（SO4）x（OH）6﹣2x]溶液．若溶液的pH偏高，則堿式硫酸鋁產(chǎn)率降低且有氣泡產(chǎn)生，用化學方程式表示其原因： ．
（3）ClO2是一種高效安全的殺菌消毒劑．氯化鈉電解法生產(chǎn)ClO2工藝原理示意圖如下：

①寫出氯化鈉電解槽內發(fā)生反應的離子方程式： ．
②寫出ClO2發(fā)生器中的化學方程式，并標出電子轉移的方向及數(shù)目： ．
③ClO2能將電鍍廢水中的CN﹣離子氧化成兩種無毒氣體，自身被還原成Cl﹣ ． 寫出該反應的離子方程式 ．

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】某興趣小組甲設計了以下裝置和方法測定空氣中SO2含量．你認為可行的操作是

序號

A

B

C

裝置

原理

通入V升空氣，測定生成沉淀的質量

當KMnO4溶液剛好褪色時，測定通入空氣的體積V

通入V升空氣，測定U型管增加的質量

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】配制一定物質的量濃度的NaCl溶液時，造成實驗結果偏高的是（ ）

A.定容時觀察液面仰視B.定容時觀察液面俯視

C.盛溶液的燒杯未洗滌D.容量瓶中原來有少量蒸餾水

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式_____________________________。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、H2和另一種酸，寫出并配平化學反應方程式_________________________________；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是_________________________________________________。

（2）下列有關硅材料的說法正確的是________ 。

A．鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高，硬度很大

（3）自然界中硅酸鹽種類多，結構復雜，通常用二氧化硅和金屬氧化物的形式來表示其組成．如正長石（KAlSi3O8），氧化物形式為_________________________________

（4）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入稀硝酸，產(chǎn)生的實驗現(xiàn)象為_____________，水玻璃在工業(yè)上有許多用途，試舉出一例____________________。

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】簡單原子的原子結構可用下圖來形象表示：

其中·表示質子或電子，°表示中子，則下列有關的敘述中，不正確的是（ ）

A. ①②③具有相同的質子數(shù)

B. ①②③互為同位素

C. ①②③是三種粒子的化學性質幾乎完全相同

D. ①②③具有的電子數(shù)不同

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科目：高中化學 來源： 題型：

【題目】如圖所示的裝置，C、D、E、F、X、Y都是惰性電極．將電源接通后，向（乙）中滴入酚酞溶液，在F極附近顯紅色．則以下說法正確的是
（1）電源B極是極（填“正”或“負”）
（2）（甲）、（乙）裝置的C、D、E、F電極均有單質生成，其物質的量比為 ．
（3）欲用（丙）裝置給鋼鍍銀，G應該是（填電極材料），電鍍液選溶液．
（4）電解一段時間后，加入何種物質能使溶液恢復到原來濃度，甲應加入乙應加入 ．

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