Question

【題目】W、X、Y、Z是四種常見的短周期元素，其原子半徑隨原子序數(shù)變化如圖所示。已知W的一種核素的質(zhì)量數(shù)為18，中子數(shù)為10；X和Ne原子的核外電子數(shù)相差1；Y的單質(zhì)是一種常見的半導體材料；Z的電負性在同周期主族元素中最大。

（1）X位于元素周期表中第________周期第________族；W的基態(tài)原子核外有________個未成對電子。

（2）Z的氣態(tài)氫化物和溴化氫相比，較穩(wěn)定的是________(寫化學式)。

（3）Y與Z形成的化合物和足量水反應，生成一種弱酸和一種強酸，該反應的化學方程式是____________________________________________________。

（4）在25 ℃、101 kPa下，已知Y的氣態(tài)氫化物在氧氣中完全燃燒后恢復至原狀態(tài)，平均每轉(zhuǎn)移1 mol電子放熱190.0 kJ，該反應的熱化學方程式是_________________________________________________________________。

Answer 1

【答案】 三 ⅠA 2 HCl SiCl4＋3H2O===H2SiO3＋4HCl SiH4(g)＋2O2(g)===SiO2(s)＋2H2O(l)　ΔH＝－1 520.0 kJ·mol－1

【解析】本題主要考查原子結(jié)構(gòu)。

W的質(zhì)子數(shù)Z＝A－N＝18－10＝8，則W為氧；X和Ne原子的核外電子數(shù)相差1，且圖中X的原子半徑大于W，則X為鈉；Y的單質(zhì)是一種常見的半導體材料，則Y為硅；Z的原子序數(shù)大于Y，且在同周期主族元素中電負性最大，則Z為氯。

(1)Na元素在元素周期表中位于第三周期第ⅠA族。O元素的基態(tài)原子的電子排布圖為，故有2個未成對電子。

(2)氯元素的非金屬性強于溴，故HCl的穩(wěn)定性更強。

(3) Y與Z形成的化合物SiCl4與H2O反應的化學方程式為SiCl4＋3H2O===H2SiO3＋4HCl。

(4)1 mol SiH4與足量O2反應，轉(zhuǎn)移8 mol電子，放熱1520.0kJ，該反應的熱化學方程式為SiH4(g)＋2O2(g)===SiO2(s)＋2H2O(l) ΔH＝－1 520.0 kJ·mol－1。