HF溶液與NaOH溶液等體積混合后，溶液中微粒之間濃度關(guān)系正確的是

A．    　　B．

C．  　　    D．

練習冊系列答案
相關(guān)習題

科目：高中化學 來源： 題型：

下列說法正確的是（　　）
A、膠體區(qū)別于其他分散系的本質(zhì)特征是有丁達爾效應B、SO3溶于水后所得溶液能導電，所以SO3是電解質(zhì)C、SiO2既能與NaOH溶液反應、又能與HF溶液反應，所以SiO2是兩性氧化物D、玻璃和水泥屬于硅酸鹽材料，都用到石灰石作原料

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科目：高中化學 來源： 題型：

下列溶液中有關(guān)微粒的物質(zhì)的量濃度的比較正確的是

A．常溫下兩種溶液①0.1mol/L CH3COOH溶液   ②0.3mol/L CH3COOH溶液與0.1mol/LNaOH溶液等體積的混合液 c（H+）：①＜②

B．常溫下將NaHCO3與NaHSO3混合溶于水，恰好呈中性的溶液中：

c（Na+）= c（HCO3-）+c（HSO3-）+2c（CO32-）+2c（SO32-）

C．相同條件下，pH=9的①CH3COONa溶液、②NH3·H2O溶液、③NaOH溶液中由水電離出的

c（OH-）：①＞②＞③

D．已知酸性HF＞CH3COOH，物質(zhì)的量濃度相等的NaF與CH3COOK溶液中：

[c（Na+）—c（F-）] ＞[c（K+）—c（CH3COO-）]

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科目：高中化學 來源：2013-2014學年陜西省高三上學期第三次教學質(zhì)量檢測理綜化學試卷（解析版） 題型：實驗題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH、Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。回答下列問題

Ⅰ.（1）寫出晶片制絨反應的離子方程式               ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH一反應，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4。基于此原理分析反應中氧化劑為                   。

（2）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

 

實驗事實

事實一

水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。

事實二

盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。

事實三

普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。

事實四

在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H2。

事實五

1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。

結(jié)論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H2O可作                劑；NaOH作_____             劑，降低反應             。高溫無水環(huán)境下，NaOH作               劑。

Ⅱ.在工業(yè)中利用鎂制取硅：2Mg＋SiO22MgO＋Si，同時有副反應發(fā)生：2Mg＋SiMg2Si，Mg2Si遇鹽酸迅速反應生成SiH4(硅烷)，SiH4在常溫下是一種不穩(wěn)定、易分解的氣體。如圖是進行Mg與SiO2反應的實驗裝置：

由于氧氣的存在對該實驗有較大影響，實驗中應通入氣體X作為保護氣，試管中的固體藥品可選用________(填序號)。        a．石灰石　　　b．鋅�！　　．純堿

（4）實驗開始時，必須先通入X氣體，再加熱反應物，其理由是______________________________，當反應開始后，移走酒精燈反應能繼續(xù)進行，其原因是___________________________。

（5）反應結(jié)束后，待冷卻至常溫時，往反應后的混合物中加入稀鹽酸�？捎^察到閃亮的火星，產(chǎn)生此現(xiàn)象的原因用化學方程式表示為_______________________________________。

 

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科目：高中化學 來源：2014屆浙江省杭州市七校高三上學期期中聯(lián)考化學試卷（解析版） 題型：填空題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機物，無機鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學清洗劑有高純水、有機溶劑、雙氧水、濃酸、強堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對太陽光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應25～35 min，效果良好。

回答下列問題

（1）能否用玻璃試劑瓶來盛HF溶液，為什么?用化學方程式加以解釋                           ；

（2）寫出晶片制絨反應的離子方程式                                    ，對單晶制絨1990年化學家Seidel提出了一種的電化學模型，他指出Si與NaOH溶液的反應，首先是Si與OH一反應，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻醒趸瘎�                     。

（3）本�；瘜W興趣小組同學，為驗證Seidel的理論是否正確，完成以下實驗：

 

實驗事實

事實一

水蒸汽在600℃時可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。

事實二

盛放于鉑或石英器皿中的純水長時間對粉末狀還原硅無腐蝕作用。

事實三

普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。

事實四

在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點著后燜燒，可劇烈放出H2。

事實五

1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。

 

結(jié)論：從實驗上說明堿性水溶液條件下，H2O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應             。高溫無水環(huán)境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽能電池表面沉積深藍色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應。硅烷是一種無色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應。下列關(guān)于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應生成H2；

B．硅烷與氨氣反應的化學方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應中NH3作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應；

D．氮化硅晶體中只存在共價鍵，Si3N4是優(yōu)良的新型無機非金屬材料。

 

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科目：高中化學 來源： 題型：

下列敘述中正確的是     

①金屬鈉不能與NaOH溶液反應；②液溴中溶有少量氯氣，可以用加入溴化鈉再用苯萃取的方法提純；③溴化銀具有感光性，碘化銀不具感光性；④某溶液與淀粉碘化鉀溶液反應出現(xiàn)藍色，則證明該溶液是氯水或溴水；⑤氟氣能與氯化鈉水溶液反應生成HF和O2；⑥氯氣跟水反應時，水既不是氧化劑也不是還原劑。

A．只有①③⑤　　    B．只有②④⑥ 　  　 C．只有②⑤⑥ 　　 D．只有①③④

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