硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如圖

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學方程式：__________________
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質，寫出配平后的化學方程式________________；H2還原SiHCl3過程中若混有O2，可能引起的后果是_____________。
(2)下列有關硅材料的說法正確的是___________（填字母）。
A．碳化硅化學性質穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥
B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料--光導纖維
D．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英制成的，其熔點很高
E．鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(1)①SiHCl3+H2Si+3HCl；②SiHCl3+3H2O=H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑；氧氣與氫氣混合，可能引起爆炸，氧氣可能會氧化SiHCl3
 (2)BC
練習冊系列答案
  • 小學畢業(yè)生總復習系列答案
  • 天天向上素質教育讀本教材新解系列答案
  • 完美學案系列答案
  • 字詞句篇與達標訓練系列答案
  • 名師面對面同步作業(yè)本系列答案
  • 全品小學閱讀系列答案
  • 專項訓練卷系列答案
  • 必考知識點全程精練系列答案
  • 初中畢業(yè)學業(yè)考試模擬試卷湖南教育出版社系列答案
  • 暢行課堂系列答案
    • 年級 高中課程 年級 初中課程
    高一 高一免費課程推薦！ 初一 初一免費課程推薦！
    高二 高二免費課程推薦！ 初二 初二免費課程推薦！
    高三 高三免費課程推薦！ 初三 初三免費課程推薦！
    相關習題

    科目：高中化學 來源： 題型：

    硅單質及其化合物應用范圍很廣．
    （1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅，工業(yè)上可以按如下步驟制備高純硅．
    Ⅰ．高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅；
    Ⅱ．粗硅與干燥的氯氣在450～500℃條件下反應制得SiCl4；
    Ⅲ．SiCl4液體經(jīng)精餾提純后與過量H2在1 100～1 200℃條件下反應制得高純硅．
    已知SiCl4沸點為57.6℃，能與H2O強烈反應．1mol H2與SiCl4氣體完全反應吸收的熱量為120.2kJ．
    請回答下列問題：
    ①第Ⅲ步反應的熱化學方程式為
    2H2（g）+SiCl4（g）
     1100-1200℃ 
    .
     
    Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-1
    2H2（g）+SiCl4（g）
     1100-1200℃ 
    .
     
    Si（s）+4HCl（g）△H=+240.4kJ?mol-1
    ．
    ②整個制備純硅的過程中必須嚴格控制在無水無氧的條件下．SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧，其生成物是
    H2SiO3（或H4SiO4）和HCl
    H2SiO3（或H4SiO4）和HCl
    ；H2還原SiCl4過程中若混入O2，可能引起的后果是
    爆炸
    爆炸
    ．
    （2）二氧化硅被大量用于生產(chǎn)玻璃．工業(yè)上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283kg在高溫下完全反應時放出CO2 44kg，生產(chǎn)出的玻璃可用化學式Na2SiO3?CaSiO3?xSiO2表示，則其中x=
    4
    4
    ．

    查看答案和解析>>

    科目：高中化學 來源： 題型：

    （2008?廣東）硅單質及其化合物應用范圍很廣．請回答下列問題：
    （1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

    ①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式
    SiHCl3+H2
     1357K 
    .
     
    Si+3HCl
    SiHCl3+H2
     1357K 
    .
     
    Si+3HCl
    ．
    ②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧．SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式
    3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
    3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
    ；H2還原SiHCl3過程中若混O2，可能引起的后果是
    高溫下，H2遇O2發(fā)生爆炸
    高溫下，H2遇O2發(fā)生爆炸
    ．
    （2）下列有關硅材料的說法正確的是
    ABCD
    ABCD
    （填字母）．
    A．碳化硅化學性質穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水混
    B．氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承
    C．普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的，其熔點很高
    D．鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
    （3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃．取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩．寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋
    生成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成，SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
    生成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成，SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
    ．

    查看答案和解析>>

    科目：高中化學 來源： 題型：

    硅單質及其化合物應用范圍很廣．三氯硅烷（SiHCl3）還原法是目前工業(yè)制高純度硅的主要方法，生產(chǎn)過程如下圖：
    精英家教網(wǎng)
    根據(jù)題意完成下列備題：
    （1）硅在元素周期表的位置
     
    ，其最外層有
     
    種能量不同的電子．
    （2）硅的氣態(tài)氫化物為SiH4，其空間構型為
     
    ；三氯硅烷中某些元素最高價氧化物對應水化物的酸性
     
    ＞
     
    （填化學式）．
    （3）寫出三氯硅烷與氫氣反應的化學反應方程式：
     
    ．
    （4）自然界中硅酸鹽種類多，結構復雜，通常用二氧化硅和金屬氧化物的形式來表示其組成．如正長石（KALSi3O8），氧化物形式為：
     
    ．

    查看答案和解析>>

    科目：高中化學 來源： 題型：

    硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

    （1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程示意圖如下：

    ①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式____________________________。

    ②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式_________________；H2還原SiHCl3過程中若混入O2，可能引起的后果是_________________________。

    （2）下列有關硅材料的說法正確的是__________________（填字母）。

    A.碳化硅化學性質穩(wěn)定，可用于生產(chǎn)耐高溫水泥

    B.氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

    C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

    D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

    E.鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

    （3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋_______________________________。

    查看答案和解析>>

    科目：高中化學 來源：2011屆福建省廈門外國語學校高三11月月考化學試卷 題型：填空題

    硅單質及其化合物應用范圍很廣。
    （1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅，工業(yè)上可以按如下步驟制備純硅：
    Ⅰ.高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
    Ⅱ.粗硅與干燥的氯氣在450 ℃～500 ℃ 反應制得SiCl4
    Ⅲ.  SiCl4液體經(jīng)精餾提純后與過量H2在1100 ℃～1200 ℃ 反應制得純硅
    已知SiCl4沸點為57.6 ℃，能與H2O強烈反應。1 mol H2與SiCl4氣體完全反應吸收的熱量為120.2 kJ。請回答下列問題：
    ① 第Ⅰ步制備粗硅的化學反應方程式為                                       ，第Ⅲ步反應的熱化學方程式是                                                   。
    ②整個制備純硅過程必須嚴格控制無水無氧。SiCl4在潮濕的空氣中因水解而產(chǎn)生白色煙霧，其生成物是          ；H2還原SiCl4過程中若混O2，可能引起的后果是        。
    （2）二氧化硅大量用于生產(chǎn)玻璃。工業(yè)上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高溫下完全反應時放出CO2 44 kg，生產(chǎn)出的玻璃可用化學式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示，則其中x＝         。

    查看答案和解析>>

    同步練習冊答案