Question

【題目】含A元素的一種單質是一種重要的半導體材料，含A元素的一種化合物C可用于制造高性能的現(xiàn)代通訊材料﹣﹣光導纖維，C與燒堿反應生成含A元素的化合物D．
（1）寫出C與HF的化學方程式是 ．
（2）將C與純堿混合高溫熔融時也發(fā)生化學反應生成D，同時還生成B的最高價氧化物E；將全部的E與全部的D在足量的水中混合后，又發(fā)生化學反應生成含A的化合物F．
①寫出生成F的化學方程反應方程式： ．
②要將純堿高溫熔化，下列坩堝中可選用的是 ．
A、普通玻璃坩堝B、石英玻璃坩堝C、氧化鋁坩堝D、鐵坩堝
（3）100gC與石灰石的混合物充分反應后，生成的氣體在標準狀況下的體積為11.2L，100g混合物中石灰石的質量分數(shù)是 ．

Answer 1

【答案】
（1）SiO2+4HF═SiF4↑+2H2O
（2）SiO2+Na2CO3 Na2SiO3+CO2↑、Na2SiO3+CO2+H2O=Na2CO3+H2SiO3↓；D
（3）50%
【解析】解：含A元素的一種單質是一種重要的半導體材料，則A為Si，含A元素的一種化合物C可用于制造高性能的現(xiàn)代通訊材料﹣﹣光導纖維，則C為SiO2 ， C與燒堿反應生成含A元素的化合物D為Na2SiO3 ， （1）二氧化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅與水，反應方程式為：SiO2+4HF═SiF4↑+2H2O，故答案為：SiO2+4HF═SiF4↑+2H2O；（2）①將SiO2與純堿混合高溫熔融時反應生成Na2SiO3 ， 同時還生成B的最高價氧化物E，則E為CO2 ， B為C，將全部的CO2與全部的Na2SiO3在足量的水中混合后，生成了含A的化合物F為H2SiO3 ， 反應方程式為：SiO2+Na2CO3 Na2SiO3+CO2↑；Na2SiO3+CO2+H2O=Na2CO3+H2SiO3↓，
故答案為：SiO2+Na2CO3 Na2SiO3+CO2↑、Na2SiO3+CO2+H2O=Na2CO3+H2SiO3↓；
②普通玻璃坩堝、石英玻璃坩堝、瓷坩堝中的二氧化硅以及氧化鋁坩堝高溫下都能與碳酸鈉反應，故選D，
故答案為：D；（3）氣體的物質的量為 =0.5mol，由SiO2+CaCO3 CaSiO3+CO2↑、CaCO3 CaO+CO2↑可知，碳酸鈣的質量為0.5mol×100g/mol=50g，則100g混合物中石灰石的質量分數(shù)是 ×100%=50%，
故答案為：50%．
含A元素的一種單質是一種重要的半導體材料，則A為Si，含A元素的一種化合物C可用于制造高性能的現(xiàn)代通訊材料﹣﹣光導纖維，則C為SiO2 ， C與燒堿反應生成含A元素的化合物D為Na2SiO3 ， （1）二氧化硅與氫氟酸反應生成四氟化硅與水；（2）①將SiO2與純堿混合高溫熔融時反應生成Na2SiO3 ， 同時還生成B的最高價氧化物E，則E為CO2 ， B為C，將全部的CO2與全部的Na2SiO3在足量的水中混合后，生成了含A的化合物F為H2SiO3；②普通玻璃坩堝、石英玻璃坩堝、瓷坩堝中的二氧化硅以及氧化鋁坩堝高溫下都能與碳酸鈉反應；（3）發(fā)生SiO2+CaCO3 CaSiO3+CO2↑，氣體的物質的量為 =0.5mol，以此計算．