【題目】[Zn(CN)4]2-在水溶液中與HCHO發(fā)生如下反應(yīng):4HCHO+[Zn(CN)4]2+4H++4H2O= [Zn(H2O)4]2++4HOCH2CN,HOCH2CN的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式如下圖所示,下列說(shuō)法不正確的是
A. HOCH2CN分子中沒有手性碳原子
B. 1mol HOCH2CN分子中含有σ鍵的物質(zhì)的量為5mol
C. [Zn(CN)4]2-和[Zn(H2O)4]2+的中心原子配位數(shù)均為4
D. HOCH2CN分子中碳原子軌道的雜化類型分別是sp3和sp雜化
【答案】B
【解析】
A. HOCH2CN分子中有1個(gè)碳原子是不飽和碳原子,1個(gè)碳原子連兩個(gè)H原子,故分子中沒有手性碳原子,故A正確;
B. HOCH2CN分子中有1個(gè),2個(gè)C-H鍵,1個(gè)C-C鍵,1個(gè)C-O鍵,1個(gè)H-O鍵,單鍵都是σ鍵,三鍵中有1個(gè)σ鍵和2個(gè)π鍵,故1mol HOCH2CN分子中含有σ鍵的物質(zhì)的量為6mol,故B錯(cuò)誤;
C. [Zn(CN)4]2-和[Zn(H2O)4]2+的中心原子配位數(shù)均為4,故C正確;
D. HOCH2CN分子中其中與羥基(-OH)相連的一個(gè)碳為飽和碳原子,價(jià)層電子對(duì)數(shù)=4+0=4,雜化軌道類型為sp3,另外一碳原子與氮原子形成碳氮三鍵,三鍵含有1個(gè)σ鍵和2個(gè)π鍵,價(jià)層電子對(duì)數(shù)為2,碳原子雜化軌道類型為sp,故D正確;
故選B。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】難溶性雜鹵石(K2SO4MgSO42CaSO42H2O)在水中存在如下平衡K2SO4MgSO42CaSO42H2O (s)2Ca2++2K++ Mg2++4SO42-+2H2O,為能充分利用鉀資源,用足量的飽和Ca(OH)2溶液溶浸雜鹵石制備硫酸鉀。工藝流程是:首先需要溶浸與分離,見下圖:
(1)不同溫度下,K+的浸出濃度與溶浸時(shí)間的關(guān)系如下圖,由圖可得,隨著溫度升高①________________;②______________。
(2)為了提高浸出效率,可采取的措施是:________;過濾用到的玻璃儀器名稱是:______。
(3)濾渣主要成分有_________和_________以及未溶雜鹵石,用化學(xué)平衡移動(dòng)原理解釋Ca(OH)2溶液能溶解雜鹵石、浸出K+的原因: _________________________________。
(4) 溶浸與分離過濾后,濾液中的主要雜質(zhì)離子是______,進(jìn)一步“除雜”環(huán)節(jié)見下圖。可先加入______溶液,經(jīng)攪拌等操作后,過濾,再加入_________溶液調(diào)濾液pH至中性。
(5)中過濾得到的母液中含有大量的_____(填寫化學(xué)式),檢驗(yàn)其中溶質(zhì)陰離子的方法是____________。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】綠礬(FeSO4·7H2O)在化學(xué)合成上用作還原劑及催化劑。工業(yè)上常用廢鐵屑溶于一定濃度的硫酸溶液制備綠礬。
(1)98% 1.84g/cm3的濃硫酸在稀釋過程中,密度下降,當(dāng)稀釋至50%時(shí),密度為1.4g/cm3,50%的硫酸物質(zhì)的量濃度為________(保留兩位小數(shù)),50%的硫酸與30%的硫酸等體積混合,混合酸的濃度為_______(填>、<、=)40%。
(2)將111.2g綠礬(FeSO47H2O,式量為278)在高溫下加熱,充分反應(yīng)后生成Fe2O3固體和SO2、SO3、水的混合氣體,則生成Fe2O3的質(zhì)量為_______g;SO2為_______mol。實(shí)驗(yàn)室可用以下方法制備摩爾鹽晶體[(NH4)2SO4·FeSO4·6H2O,式量為392]。
(3)將4.88g鐵屑(含Fe2O3)與25mL 3mol/L H2SO4充分反應(yīng)后,得到FeSO4和H2SO4的混合溶液,稀釋溶液至100mL,測(cè)得其pH=1。鐵屑中Fe2O3的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是________(保留兩位小數(shù))。
(4)向上述100mL溶液中加入與該溶液中FeSO4等物質(zhì)的量的(NH4)2SO4晶體,待晶體完全溶解后蒸發(fā)掉部分水,冷卻至t℃,析出摩爾鹽晶體12.360g,剩余溶液的質(zhì)量為82.560g。t℃時(shí),計(jì)算(NH4)2SO4·FeSO4·6H2O的溶解度。_______(保留兩位小數(shù))。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】YBa2Cu3Ox(Y為元素釔)是一種重要超導(dǎo)材料,下列關(guān)于的說(shuō)法錯(cuò)誤的是( )
A.質(zhì)量數(shù)是89B.質(zhì)子數(shù)與中子數(shù)之差為50
C.核外電子數(shù)是39D.與互為同位素
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】一定溫度下,用Na2S沉淀Cu2+、Mn2+、Fe2+、Zn2+四種金屬離子(M2+),形成沉淀所需S2-最低濃度的對(duì)數(shù)值lgc(S2-)與lgc(M2+)關(guān)系如圖所示。下列說(shuō)法不正確的是
A. 若向沉淀劑Na2S溶液通入HC1氣體至中性,存在關(guān)系: c(HS-)+2c(H2S)=c(Cl-)
B. 該溫度下,Ksp(MnS)大于1.0×10-35
C. 若將MnS、FeS的飽和溶液等體積混合,再加入足量的濃 Na2S溶液,發(fā)生的反應(yīng)為MnS沉淀少于FeS
D. 向l00mL濃度均為10-5mol·L-1Zn2+、Fe2+、Mn2+的混合溶液中逐滴加入10-4mol·L-1Na2S溶液,ZnS先沉淀
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】請(qǐng)寫出下列各題中的離子方程式或化學(xué)方程式
(1)碳酸鈉與硝酸反應(yīng)的離子方程式:_________。
(2)二氧化硅與氫氧化鈉反應(yīng)的離子方程式:_____________。
(3)寫出工業(yè)制硅所涉及的化學(xué)方程式:a.__________b.__________c.____________。
(4)寫出氫氧化鎂與鹽酸反應(yīng)的離子方程式:____________。
(5)請(qǐng)寫出一個(gè)離子方程式證明溴的氧化性大于碘:_________。
(6)寫出一個(gè)化學(xué)方程式其離子反應(yīng)為CO32-+2H+=CO2+H2O:______。
(7)寫出一種酸在常溫下能與硅反應(yīng)的化學(xué)方程式:_______________。
(8)寫出用HF雕刻玻璃的化學(xué)方程式:_________________。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】硫酸生產(chǎn)中爐氣轉(zhuǎn)化反應(yīng)為:2SO2(g)+O2(g)2SO3(g)。研究發(fā)現(xiàn),SO3的體積分?jǐn)?shù)(SO3%)隨溫度(T)的變化如曲線Ⅰ所示。下列判斷正確的是
A.該反應(yīng)的正反應(yīng)為放熱反應(yīng)
B.曲線Ⅰ上A、C兩點(diǎn)反應(yīng)速率的關(guān)系是:vA>vC
C.反應(yīng)達(dá)到B點(diǎn)時(shí),2v正(O2)= v逆(SO3)
D.已知V2O5的催化效果比Fe2O3好,若Ⅰ表示用V2O5作催化劑的曲線,則Ⅱ可表示為Fe2O3作催化劑的曲線
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】(1)寫出氯堿工業(yè)電解飽和食鹽水的化學(xué)方程式:_______________
(2)已知:2KMnO4 + 16HCl =2KCl+2MnCl2 +5Cl2↑+8H2O,15.8g KMnO4 與 100mL12mol/L濃鹽酸充分反應(yīng),固體完全溶解,生成標(biāo)準(zhǔn)狀況下氯氣的體積為______L,轉(zhuǎn)移的電子數(shù)____個(gè),若向反應(yīng)后的溶液中加入足量的硝酸銀,過濾、洗滌、干燥,可得到固體 _____mol。
(3)將標(biāo)準(zhǔn)狀況下 6.72L 的 HCl 溶于水形成 250mL 溶液,取出 10mL 于錐形瓶中,溶質(zhì)的物質(zhì)的量濃度為_________mol/L,向錐形瓶中滴加 0.5mol/LBa(OH)2 溶液,恰好反應(yīng),消耗Ba(OH)2 的體積為______mL。
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科目:高中化學(xué) 來(lái)源: 題型:
【題目】銀質(zhì)器皿日久表面會(huì)逐漸變黑,這是生成了Ag2S的緣故。將變黑的銀質(zhì)器皿放入下圖裝置,一段時(shí)間后發(fā)現(xiàn)黑色會(huì)褪去;卮鹣铝袉栴}:
(1)鋁為________極,KNO3鹽橋中的________離子進(jìn)入a燒杯中,銀器的電極反應(yīng)式為________。
(2)如不用鹽橋,將鋁片和銀器插入一個(gè)盛食鹽水的燒杯中處理,負(fù)極的電極反應(yīng)式是_________,總反應(yīng)方程式_______
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