回答下列問題:

（1）乙中銅片為________極 (填“正”或“負”），其電極反應式為________。

（2）一段時間后，將甲和乙兩池溶液混合，加入H2O2和一定量稀硫酸后，有Fe(OH)3沉淀出現(xiàn)，但沒有Cu(OH)2沉淀出現(xiàn)，此時溶液中c(Fe3+)=2.6×10－18 mol·L－1，求溶液中Cu2+的最大物質(zhì)的量濃度________。（寫出計算步驟）（已知2Fe2＋＋H2O2＋2H＋＝2Fe3＋＋2H2O，Ksp[Fe(OH)3]=2.6×10－39，Ksp[Cu(OH)2]=2.2×10－20）。

（3）丙中電源的A極為________極(填“正”或“負”）。

（4）若丙池盛放足量的CuSO4溶液：

①在丙池鐵棒這極的現(xiàn)象是________。

②在丙池中陽極的電極反應是________。

(5)若丙池中盛放滴加少量酚酞的足量的飽和NaCl溶液1L（假設(shè)溶液體積電解前后無變化）。

①丙池通電一段時間后，________極附近溶液呈紅色（填Fe或C），總反應的離子方程式：________。

②25℃時，當丙池中有0.1mol電子發(fā)生轉(zhuǎn)移時切斷電源，則理論上標準狀況下共有________ L氣體生成。此時溶液的pH為________。

A. 0.1 mol·L－1NaNO3溶液：H＋、Fe2＋、Cl－、SO42－、K＋

B. ＝10－13mol·L－1的溶液：Na＋、AlO2－、OH－、NO3－

C. 0.1 mol·L－1NH3·H2O溶液：K＋、Na＋、NO3－、Cl－

D. 加入鋁粉能產(chǎn)生大量H2的溶液：Na＋、K＋、Cl－、HCO3－

A. 堿洗目的是除去鋁材表面的自然氧化膜：2OH－＋Al2O3===2AlO2-＋H2O

B. 堿洗時鋁材表面會出現(xiàn)氣泡：2Al＋2OH－＋2H2O===2AlO2-＋3H2↑

C. 獲得耐蝕鋁材的電極反應：4Al－12e－＋3O2===2Al2O3

D. 用稀氨水洗去耐蝕鋁材表面的酸：NH3·H2O＋H＋===NH4+＋H2O

A. 用過量石灰乳吸收工業(yè)尾氣中的SO2: Ca2++2OH-+SO2＝CaSO3 ↓+ H2O

B. 用酸性KMnO4溶液與H2O2反應，證明H2O2具有還原性：2MnO4—+6H++5H2O2＝2Mn2++5O2 ↑+8H2O

C. 用銅做電極電解NaCl溶液:2C1—+2H2OH2↑+Cl2↑+2OH-

D. 將 Fe2O3加入到 HI 溶液中：Fe2O3+ 6H+＝2Fe3+ +3H2O

A. 向新制氯水中加入少量CaCO3粉末后，溶液的pH減小

B. SO2、氯氣都能使品紅溶液褪色，但原理不同

C. NaHCO3、CH3COONH4都能分別和鹽酸、燒堿溶液反應

D. FeSO4溶液、Na2SO3溶液在空氣中都易因氧化而變質(zhì)

請回答下列問題：

（1）A、B兩種模型分別是有機物的________模型和________模型。

（2）A及其同系物的分子式符合通式________(用n表示)。當n＝________時，烷烴開始出現(xiàn)同分異構(gòu)體。

（3）A、B、C三種有機物中，所有原子均共面的是________(填名稱)。結(jié)構(gòu)簡式為CH2=CH(CH2)5CH3的有機物中，處于同一平面內(nèi)的碳原子數(shù)最多為________。

（4）有機物C具有的結(jié)構(gòu)或性質(zhì)是________(填字母)。

a．是碳碳雙鍵和碳碳單鍵交替的結(jié)構(gòu)

b．有毒、不溶于水、密度比水小

c．不能使酸性KMnO4溶液和溴水褪色

d．一定條件下能與氫氣或氧氣反應

（5）等質(zhì)量的三種有機物完全燃燒生成H2O和CO2，消耗氧氣的體積(相同狀況下)最大的是________(填分子式)。

A. 用蘸有待測液的鐵絲，檢驗K+

B. 從食鹽水中提取氯化鈉

C. 驗證NaHCO3和Na2CO3的熱穩(wěn)定性

D. 分離水與乙醇

A．pH=2.5的溶液中：c(H2C2O4)+c(C2O42–)＞c(HC2O4–)

B．c(Na+)=0.100 mol·L–1的溶液中：c(H+)+c(H2C2O4)=c(OH–)+c(C2O42–)

C．c(HC2O4–)=c(C2O42–)的溶液中：c(Na+)＞0.100 mol·L–1+c(HC2O4–)

D．pH=7的溶液中：c(Na+)<2c(C2O42–)

A. 電解液質(zhì)量增加x g B. 陰極質(zhì)量增加x g

C. 陰極質(zhì)量增加a g，a＞x D. 陰極質(zhì)量增加b g，b＜x

A. 裝置除去Cl2中的HCl

B. 裝置實驗室制NH3

C. 裝置分離MnO2和KCl

D. 裝置蒸干NH4Cl飽和溶液制備NH4Cl晶體