近聞美國和日本正在研究用Na₂SO₃吸收法作為治理SO₂污染的一種新方法。第一步是用Na₂SO₃溶液吸收SO₂生成NaHSO₃；第二步是加熱吸收液，使之重新生成Na₂SO₃，同時得到含高濃度SO₂的副產(chǎn)品。試寫出上述兩步反應的化學方程式。

第一步：__________________________________________________

第二步：__________________________________________________

單晶硅是制作電子集成電路的基礎材料�？茖W家預計，到2011年一個電腦芯片上將會集成10億個晶體管，其功能遠比我們想象的要大的多，這對硅的純度要求很高。用化學方法可制得高純度硅，其化學方程式為：       ①SiO₂ + 2CSi + 2CO

②Si + 2Cl₂SiCl₄       ③SiCl₄ + 2H₂Si + 4HCl，其中反應①和③屬于（     ）

A．化合反應                        B．分解反應

C．置換反應                        D．復分解反應

某些化學試劑可用于凈水。水處理中使用的一種無機離分子混凝荊的化學式可表示為[Al₂（OH）_nCl_myH₂O]_x，式中m等于           （    ）

    A．3—n    B．6-n      C．6+n      D．3+n

元素X、Y、Z原子序數(shù)之和為37，X、Y在同一周期，X⁺與Z^－具有相同的核外電子層結構。下列推測不正確的是            （    ）

    A．同周期元素中X的金屬性最強  

    B．原子半徑X＞Y，離子半徑X⁺＞Z^－

    C．同族元素中Z的氫化物穩(wěn)定性最高  

    D．同周期元素中Y的最高價含氧酸的酸性最強

a g下列物質(zhì)在氧氣中充分燃燒后的氣體（1.01×10⁵ Pa，120℃），通過足量的過氧化鈉充分反應后，過氧化鈉增重b g，符合b>a 的選項有     

    A．HCHO     B．CH₃COOCH₂CH₃         C．HOOCCOOH    D．HCOOH

將amol鈉和amol鋁一同投入mg足量的水中，所得溶液的密度為dg·該溶液的質(zhì)量分數(shù)為（　）

A．　　　　B．　C．　　　D．

下列圖中A－F是中學化學常見化合物,且A﹑B﹑E﹑F均含有相同一種金屬元素，G是一種常見單質(zhì)。

①A（固體） B + C + D        ②C + E → B + G;   ③ D + E → F + G

④A（溶液）+F（溶液）→B（溶液）+D    ⑤B（溶液） + C + D → A（溶液）

（1）寫出A﹑B﹑C﹑E﹑F的化學式：A__________ B_________ C__________

E__________ F__________

（2）寫出反應①②④⑤的化學方程式：

①_________________________________________________

②_________________________________________________

④_________________________________________________

⑤_________________________________________________

（3）請寫出化合物E的兩種重要用途：____________________________

限用一種試劑，經(jīng)過一次性實驗就能鑒別碳酸鈉、硫酸銨、氯化銨、硝酸鉀溶液，這種試劑是

A．硝酸銀溶液B．氫氧化鈉溶液C．氫氧化鋇溶液D．鹽酸

下列各組離子，在溶液中能大量共存、加入NaOH溶液后加熱既有氣體放出又有沉淀生成的一組是

A.Ba²⁺、NO₃^-、NH₄⁺、Cl^-B.Ca²⁺、HCO₃^-、NH₄⁺、AlO₂^-

C.K⁺、Ba²⁺、Cl^-、HSO₃^-D.Mg²⁺、NH₄⁺、SO₄^2-、K⁺

向300mL KOH溶液中緩慢通入2．24L（標準狀況） CO₂氣體，充分反應后，在減壓低溫下蒸發(fā)溶液，得到19．4g白色固體。則下列說法中正確的是    （    ）

       A．此白色固體僅含K₂CO₃

       B．此白色固體是K₂CO₃和KHCO₃的混合物

       C．原溶液中含KOH的質(zhì)量是11．2g

       D．原KOH溶液的物質(zhì)的量濃度是1 mol/L