已知：①2BrO₃^-+Cl₂=Br₂+2ClO₃^-，②5Cl₂+I₂+6H₂O=2HIO₃+10HCl，③ClO₃^-+5Cl^-+6H⁺=3Cl₂+3H₂O．下列離子氧化性正確的是

1. A.
   ClO₃^-＞BrO₃^-＞IO₃^-＞Cl₂
2. B.
   IO₃^-＜ClO₃^-＜BrO₃^-＜Cl₂
3. C.
   IO₃^-＜BrO₃^-＜Cl₂＜ClO₃^-
4. D.
   BrO₃^-＞ClO₃^-＞Cl₂＞IO₃^-

銅是重要的金屬材料．
（1）工業(yè)上可用Cu₂S和O₂反應(yīng)制取粗銅，化學(xué)方程式為_(kāi)_____該反應(yīng)中氧化劑為_(kāi)_____．
（2）在100mL 18mol?L^-1 濃硫酸中加入過(guò)量的銅片，加熱使之充分反應(yīng)，反應(yīng)中被還原的H₂SO₄＜______mol．
（3）電子工業(yè)曾用30%的FeCl₃溶液腐蝕覆蓋銅箔的絕緣板制印刷電路板，為了從使用過(guò)的廢腐蝕液中回收銅，并重新得FeCl₃溶液，設(shè)計(jì)如下實(shí)驗(yàn)流程．

上述流程中，所加試劑的化學(xué)式為：X______，Y______，Z______；
第⑥步反應(yīng)的離子方程式為_(kāi)_____．

某實(shí)驗(yàn)需要100mL、0.1mol/L的K₂CO₃溶液，現(xiàn)通過(guò)如下操作配制：
①把稱量好的固體K₂CO₃放入小燒杯中，加適量蒸餾水溶解．為加快溶解可以使用______（填儀器名稱）攪拌； ②把①所得溶液冷卻到室溫后，小心轉(zhuǎn)入______（填儀器名稱）；③繼續(xù)加蒸餾水至液面至刻度線1～2cm處，改用（填具體操作方法）______；�、苡蒙倭空麴s水洗滌玻璃棒和燒杯2～3次，每次洗滌的溶液都小心轉(zhuǎn)入容量瓶，并輕輕搖勻；⑤將容量瓶塞緊，充分振蕩搖勻．
（1）操作步驟正確的順序是______（填序號(hào)）．
（2）若沒(méi)有操作④，則所配溶液的濃度會(huì)______（填“偏高”或“偏低”）．
（3）若取出20mL配好的K₂CO₃溶液，加蒸餾水稀釋成c（K⁺）=0.01mol/L的溶液，則稀釋后溶液的體積為_(kāi)_____mL
（4）在配制100mL、0.1mol/L K₂CO₃的溶液時(shí)，下列操作中的______會(huì)導(dǎo)致結(jié)果偏低（請(qǐng)用序號(hào)填寫）
①用托盤天平稱量時(shí)砝碼放在左盤　 ②將燒杯中的溶液轉(zhuǎn)移到容量瓶時(shí)不慎灑到容量瓶外　 ③定容時(shí)俯視刻度線　　 ④定容時(shí)仰視刻度線�、莞蓛舻娜萘科课唇�(jīng)干燥就用于配制溶液．

某樣品中含有碳酸鈉及少量的硫酸鈉和氯化鈉．某學(xué)生為了檢驗(yàn)其成分，按照下圖所示步驟進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，請(qǐng)將所加試劑及有關(guān)結(jié)論填寫在相應(yīng)的空格中．

（1）某無(wú)色透明溶液可能存在Na⁺、Fe³⁺、Ba²⁺、NO₃^-、CO₃^2-、HCO₃^-、SO₄^2-中的幾種離子，現(xiàn)有如下操作：
Ⅰ、取適量該溶液加入CaCl₂溶液無(wú)沉淀，繼續(xù)滴加鹽酸產(chǎn)生無(wú)色無(wú)味的氣體．
Ⅱ、另取該溶液滴加一定量的NaOH溶液有白色沉淀生成．
試回答下列問(wèn)題：
①該溶液中一定存在的離子有______，一定不存在的離子______．
②用一個(gè)離子方程式表示操作Ⅱ的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象：______．
（2）下列各項(xiàng)中的兩種物質(zhì)在溶液中的反應(yīng)，可用同一離子方程式表示的是______，請(qǐng)寫出該離子反應(yīng)方程式：______．
A、鹽酸和燒堿溶液、硫酸和氫氧化鋇溶液
B、純堿溶液和鹽酸、石灰石和硫酸
C、氯化鋇溶液和硫酸鈉溶液、硝酸鋇溶液和硫酸
D、碳酸氫鈉溶液和氫氧化鈉溶液、碳酸氫鈉溶液和氫氧化鈣溶液、

有一固體粉末，其中可能含有Na₂CO₃、NaCl、Na₂SO₄、CuCl₂、Ba（NO₃）₂、K₂CO₃、K₂SO₄中的一種或幾種，現(xiàn)按下列步驟進(jìn)行實(shí)驗(yàn)．
（1）將該粉末溶于水得無(wú)色溶液和白色沉淀．
（2）在濾出的沉淀中加入稀硝酸，有部分沉淀溶解，同時(shí)產(chǎn)生無(wú)色氣體．
（3）取濾液做焰色反應(yīng)，火焰呈黃色，透過(guò)藍(lán)色的鈷玻璃觀察，未見(jiàn)紫色火焰．
由上述現(xiàn)象推斷：該混合物中一定含有______，一定不含有______，可能含有______．如要檢驗(yàn)其是否存在，將如何操作______．

一定量的CuS和Cu₂S的混合物投入足量的HNO₃中，收集到氣體V L（標(biāo)準(zhǔn)狀況），向反應(yīng)后的溶液中（存在Cu²⁺和SO₄^2-）加入足量NaOH，產(chǎn)生藍(lán)色沉淀，過(guò)濾，洗滌，灼燒，得到CuO 12.0g，若上述氣體為NO和NO₂的混合物，且體積比為1：1，則V可能為

1. A.
   9.0 L
2. B.
   13.5 L
3. C.
   15.7 L
4. D.
   16.8 L

在一定的溫度和壓強(qiáng)下，氣體體積的大小主要取決于

1. A.
   氣體分子數(shù)目的多少
2. B.
   氣體分子的相對(duì)分子質(zhì)量大小
3. C.
   氣體分子間距離的大小
4. D.
   構(gòu)成氣體分子的原子的多少

某工廠用FeCl₃溶液腐蝕鍍有銅的絕緣板生產(chǎn)印刷電路．課外活動(dòng)小組為確認(rèn)生產(chǎn)后的廢液的組成，進(jìn)行如下實(shí)驗(yàn)：（1）取20mL廢液加入足量的AgNO₃溶液，生成沉淀 17.22g．（2）另取20mL廢液放入銅片充分反應(yīng)，銅片質(zhì)量減少了0.32g．下列關(guān)于原廢液組成的判斷錯(cuò)誤的是

1. A.
   一定含有Fe²⁺、Fe³⁺、Cu²⁺、Cl^-
2. B.
   c（Fe²⁺）：c（Fe³⁺）=5：2
3. C.
   c（Fe²⁺）：c（Cu²⁺）=2：1
4. D.
   c（Cl^-）=6.0 mol?L^-1，c（Fe²⁺）=1.5mol?L^-1

下列說(shuō)法正確的是

1. A.
   高溫下，可在試管內(nèi)完成焦炭和石英砂（SiO₂）制取硅的反應(yīng)
2. B.
   CO₂和鈉在一定條件下可以得到金剛石和碳酸鈉，反應(yīng)中氧化劑和還原劑之比是3：4
3. C.
   現(xiàn)代海戰(zhàn)通過(guò)噴放液體SiCl₄（極易水解）和液氨可產(chǎn)生煙幕，其主要成分是NH₄Cl
4. D.
   從燃煤煙道灰中（含GeO₂）提取半導(dǎo)體材料單質(zhì)鍺（Ge），沒(méi)有發(fā)生氧化還原反應(yīng)