(2010?杭州二模)如圖甲所示,在虛線框兩側(cè)區(qū)域存在有大小為B、方向分別為水平向左和水平向右的勻強(qiáng)磁場(chǎng).用薄金屬條制成的閉合正方形框aa′b′b邊長(zhǎng)為L(zhǎng),質(zhì)量為m,電阻為R.金屬方框水平放置于距磁場(chǎng)上邊界H處,由靜止開(kāi)始下落,其平面在下落過(guò)程中始終保持水平,當(dāng)其落人磁場(chǎng)后,aa′整邊、bb′整邊分別位于左、右兩邊的磁場(chǎng)中,方向均與磁場(chǎng)方向垂直,乙圖是從上向下看的俯視圖.(不計(jì)空氣阻力).
(1)求方框下落的最大速度v
m(設(shè)磁場(chǎng)區(qū)域在豎直方向足夠長(zhǎng));
(2)當(dāng)方框下落的速度為v時(shí),求此時(shí)方框內(nèi)感應(yīng)電流的功率P;
(3)從進(jìn)入磁場(chǎng)開(kāi)始計(jì)時(shí)經(jīng)過(guò)時(shí)間t,方框在磁場(chǎng)中下落了高度h,速度達(dá)到v
t.若在這段時(shí)間內(nèi)感應(yīng)電流做的功與一恒定電流,I
0在t時(shí)間內(nèi)在該框內(nèi)做的功相同,求恒定電流l
0的表達(dá)式.