(2009?宜昌模擬)如圖所示,相距2L的AB、CD兩直線(xiàn)間的區(qū)域存在著兩個(gè)方向相下方的電場(chǎng)界勻強(qiáng)電場(chǎng),其中PT上方的電場(chǎng)E
1豎直向下,下方的電場(chǎng)E
0豎直向上,PQ上連續(xù)分布著電量為+q、質(zhì)量為m的粒子,依次以相同的初速度v
0.垂直射入E
0中,PQ=L.若從Q點(diǎn)射入的粒子恰從M點(diǎn)水平射出,其軌跡如圖,MT=
.不計(jì)粒子的重力及它們間的相互作用.試求:
(1)E
0與E
1的大;
(2)若從M點(diǎn)射出的粒子恰從中點(diǎn)S孔垂直射入邊長(zhǎng)為a的正方形容器中,容器中存在如圖所示的勻強(qiáng)磁場(chǎng),已知粒子運(yùn)動(dòng)的半徑小于a.欲使粒子與器壁多次垂直碰撞后仍能從S孔射出(粒子與絕緣壁碰撞時(shí)無(wú)能量和電量損失),求磁感應(yīng)強(qiáng)度B應(yīng)滿(mǎn)足的條件?
(3)在PQ間還有許多水平射入電場(chǎng)的粒子通過(guò)電場(chǎng)后也能從CD邊水平射出,這些入射點(diǎn)到P點(diǎn)的距離應(yīng)滿(mǎn)足的條件?