（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl₃制備高純硅的化學反應方程式____________________________。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl₃遇水劇烈反應生成H₂SiO₃、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式_________________；H₂還原SiHCl₃過程中若混入O₂，可能引起的后果是_________________________。

（2）下列有關硅材料的說法正確的是__________________（填字母）。

A.碳化硅化學性質穩(wěn)定，可用于生產耐高溫水泥

B.氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導纖維

D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的，其熔點很高

E.鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實驗現象并給予解釋_______________________________。

硅單質及其化合物應用范圍很廣。
（1）制備硅半導體材料必須先得到高純硅，工業(yè)上可以按如下步驟制備純硅：
Ⅰ.高溫下用碳還原二氧化硅制得粗硅
Ⅱ.粗硅與干燥的氯氣在450 ℃～500 ℃ 反應制得SiCl₄
Ⅲ.  SiCl₄液體經精餾提純后與過量H₂在1100 ℃～1200 ℃ 反應制得純硅
已知SiCl₄沸點為57.6 ℃，能與H₂O強烈反應。1 mol H₂與SiCl₄氣體完全反應吸收的熱量為120.2 kJ。請回答下列問題：
① 第Ⅰ步制備粗硅的化學反應方程式為                                       ，第Ⅲ步反應的熱化學方程式是                                                   。
②整個制備純硅過程必須嚴格控制無水無氧。SiCl₄在潮濕的空氣中因水解而產生白色煙霧，其生成物是          ；H₂還原SiCl₄過程中若混O₂，可能引起的后果是        。
（2）二氧化硅大量用于生產玻璃。工業(yè)上用SiO₂、Na₂CO₃和CaCO₃共283 kg在高溫下完全反應時放出CO₂ 44 kg，生產出的玻璃可用化學式Na₂SiO₃·CaSiO₃·xSiO₂表示，則其中x＝         。