4.電子工業(yè)中常用FeCl3溶液腐蝕印刷電路板上的部分銅皮.要從腐蝕后的廢液中回收銅和制得純凈的FeCl3溶液.需要用到下列試劑中的 ①蒸餾水, ②鐵粉, ③濃硫酸, ④濃鹽酸, ⑤燒堿,⑥濃氨水 ⑦氯氣. A.①②④⑦ B.①③④⑥ C.②④⑥⑦ D.①④⑥⑦ 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板.廢腐蝕液含有大量CuCl2、FeCl2和FeCl3,任意排放將導(dǎo)致環(huán)境污染及資源的浪費(fèi),應(yīng)考慮回收利用.按如下流程在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行實(shí)驗(yàn):從廢液中回收銅,并將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液,作為腐蝕液原料循環(huán)使用.

(1)寫出FeCl3溶液與銅箔發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式:______.
(2)檢驗(yàn)廢腐蝕液中含有Fe3+的實(shí)驗(yàn)操作是______.
(3)“過(guò)濾”用到的玻璃儀器有:普通漏斗、______.
(4)廢液中加入過(guò)量①后,發(fā)生反應(yīng)的離子方程式:______.
(5)上述流程中取廢液200mL,其中含CuCl2 1.5mol?L-1、FeCl2 3.0mol?L-1、FeCl3 1.0mol?L-1,若要將銅全部回收,需加入Fe粉的質(zhì)量應(yīng)不少于______g;將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液需通入Cl2的物質(zhì)的量不少于______mol.

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電子工業(yè)常用一定濃度的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板;卮鹣铝袉(wèn)題:
(1)FeCl3溶液與金屬銅反應(yīng)的化學(xué)方程式為_(kāi)_________________,氧化劑是____________,氧化產(chǎn)物是____________。
(2)從上述腐蝕廢液中可回收銅,并重新獲得FeCl3溶液。若用VLFeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,將回收的銅經(jīng)過(guò)洗滌、干燥等處理后,稱得其質(zhì)量為mg。假設(shè)FeCl3全部反應(yīng),現(xiàn)要計(jì)算銅的回收率ω(Cu),除必須應(yīng)用所有給出的數(shù)據(jù)外,還缺少一個(gè)數(shù)據(jù)(用a表示),該數(shù)據(jù)的名稱是__________, 列出計(jì)算式ω(Cu)=______________。

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電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板.廢腐蝕液含有大量CuCl2、FeCl2和FeCl3,任意排放將導(dǎo)致環(huán)境污染及資源的浪費(fèi),應(yīng)考慮回收利用.按如下流程在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行實(shí)驗(yàn):從廢液中回收銅,并將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液,作為腐蝕液原料循環(huán)使用.

(1)寫出FeCl3溶液與銅箔發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式:______.
(2)檢驗(yàn)廢腐蝕液中含有Fe3+的實(shí)驗(yàn)操作是______.
(3)“過(guò)濾”用到的玻璃儀器有:普通漏斗、______.
(4)廢液中加入過(guò)量①后,發(fā)生反應(yīng)的離子方程式:______.
(5)上述流程中取廢液200mL,其中含CuCl2 1.5mol?L-1、FeCl2 3.0mol?L-1、FeCl3 1.0mol?L-1,若要將銅全部回收,需加入Fe粉的質(zhì)量應(yīng)不少于______g;將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液需通入Cl2的物質(zhì)的量不少于______mol.

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(I)電子工業(yè)常用30%的FeCl3。溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板。用FeCl3溶液做腐蝕液與Cu反應(yīng)生成CuCl2和FeCl2。
(1)寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式                                                    。
(2)檢驗(yàn)溶液中Fe3+存在的試劑是                             
(Ⅱ)印刷電路的廢腐蝕液含有大量CuCl2、FeCl2、FeCl3,任意排放會(huì)造成環(huán)境污染及資源的浪費(fèi)。通過(guò)下列流程可從該廢液中回收銅,并將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液,作為腐蝕液原料循環(huán)使用。
(3) 步驟①中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式               
(4)濾渣的主要成分是         ,             (填化學(xué)式)。
(5)為了除去濾渣中的雜質(zhì)得到銅,需加入的試劑A是                 (填化學(xué)式)。

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 (I)電子工業(yè)常用30%的FeCl3。溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板。用FeCl3溶液做腐蝕液與Cu反應(yīng)生成CuCl2和FeCl2。

(1)寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式                                                    。

(2)檢驗(yàn)溶液中Fe3+存在的試劑是                             

(Ⅱ)印刷電路的廢腐蝕液含有大量CuCl2、FeCl2、FeCl3,任意排放會(huì)造成環(huán)境污染及資源的浪費(fèi)。通過(guò)下列流程可從該廢液中回收銅,并將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液,作為腐蝕液原料循環(huán)使用。

(3) 步驟①中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式               

(4)濾渣的主要成分是         ,             (填化學(xué)式)。

(5)為了除去濾渣中的雜質(zhì)得到銅,需加入的試劑A是                 (填化學(xué)式)。

 

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