Ⅰ．填寫下列空白
（1）NaHSO₄在溶液中的電離方程式為：
（2）向NaHSO₄溶液中滴入Ba（OH）₂溶液至中性，其離子方程式為
（3）向NaHCO₃溶液中滴加過量的Ba（OH）₂溶液，其離子方程式為
（4）向20mL 0.1mol/L的Ba（OH）₂溶液中通入CO₂，當(dāng)?shù)玫?.001molBaCO₃沉淀時(shí)，通入CO₂的物質(zhì)的量可以是 mol
Ⅱ．某一反應(yīng)體系有反應(yīng)物和生成物共五種物質(zhì)：O₂、H₂CrO₄、Cr（OH）₃、H₂O、H₂O₂
已知該反應(yīng)中H₂O₂只發(fā)生如下過程：H₂O₂→O₂
（1）該反應(yīng)中的還原劑是．
（2）該反應(yīng)中，發(fā)生還原反應(yīng)的過程是→．
（3）寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式，并標(biāo)出電子轉(zhuǎn)移的方向和數(shù)目
（4）如反應(yīng)轉(zhuǎn)移了0.3mol電子，則產(chǎn)生的氣體在標(biāo)準(zhǔn)狀況下體積為．

（1）電子工業(yè)需要用30%的FeCl₃溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅，制造印刷電路板．
請(qǐng)寫出FeCl₃溶液與銅反應(yīng)的化學(xué)方程式：．檢驗(yàn)反應(yīng)后的溶液中存在Fe³⁺的試劑是：．
（2）某一反應(yīng)體系有反應(yīng)物和生成物共五種物質(zhì)：O₂、H₂CrO₄、Cr（OH）₃、H₂O、H₂O₂．已知該反應(yīng)中H₂O₂只發(fā)生如下過程：H₂O₂→O₂
①該反應(yīng)中的還原劑是．
②該反應(yīng)中，發(fā)生還原反應(yīng)的過程是→．
③如反應(yīng)轉(zhuǎn)移了0.3mol電子，則產(chǎn)生的氣體在標(biāo)準(zhǔn)狀況下體積為．

（2010?長春一模）某一反應(yīng)體系有反應(yīng)物和生成物共五種物質(zhì)：O₂、H₂CrO₄、Cr（OH）₃、H₂O、H₂O₂．已知該反應(yīng)中，H₂O₂只發(fā)生如下過程：H₂O₂-→O₂．
（1）該反應(yīng)的還原劑是．
（2）若反應(yīng)轉(zhuǎn)移了0.3mol電子，則產(chǎn)生的氣體在標(biāo)準(zhǔn)狀況下的體積是L．
（3）寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式．

某一反應(yīng)體系有反應(yīng)物和生成物共五種物質(zhì)：O₂、H₂CrO₄、Cr（OH）₃、H₂O、H₂O₂已知該反應(yīng)中H₂O₂只發(fā)生如下過程：H₂O₂→O₂
（1）該反應(yīng)中的還原劑是．
（2）寫出該反應(yīng)的化學(xué)方程式（可以不配平）．
（3）如反應(yīng)轉(zhuǎn)移了0.3mol電子，則產(chǎn)生的氣體在標(biāo)準(zhǔn)狀況下體積為L．