A.變大 B.變小C.不變 D.變大.變小均有可能(2)用如圖乙所示裝置測(cè)定玻璃的折射率.在光具盤的中央固定一個(gè)半圓形的玻璃磚.使二者的圓心O重合.使激光束從玻璃圓弧面一側(cè)入射并垂直直徑平面通過圓心O射出玻璃磚.記下入射光束在光具盤上所對(duì)應(yīng)的刻度.以圓心O為軸逆時(shí)針緩慢轉(zhuǎn)動(dòng)光具盤.同時(shí)觀察直徑平面一側(cè)出射光線的變化:出射光線不斷向下偏轉(zhuǎn)并越來越暗.直到剛好看不到出射光線為止.并記下這時(shí)入射光線在光具盤上位置的刻度.光具盤上兩次刻度之間的夾角θ就是光束從玻璃射向空氣的 .玻璃的折射率表達(dá)式為n= .激光在玻璃中的速度為v= .(已知光在真空中的速度為c) 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)













A.變小,變小
B.不變,變大
C.變小,變小
D.變大,變大

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精英家教網(wǎng)B.如圖所示的長直導(dǎo)線中有穩(wěn)恒電流I通過,處于導(dǎo)線的正上方有一個(gè)帶正電質(zhì)量極小的粒子以平行導(dǎo)線的初速度v0射出,能正確反映該粒子運(yùn)動(dòng)軌跡的是( 。
A、圖線①且軌跡半徑越來越大B、圖線②且軌跡半徑越來越大C、圖線③且軌跡不變D、圖線④且軌跡半徑越來越小

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精英家教網(wǎng)C.(選修模塊 3 一 5 )  
( l )在光電效應(yīng)實(shí)驗(yàn)中,小明同學(xué)用同一實(shí)驗(yàn)裝置(如圖 l )在甲、乙、丙三種光的照射下得到了三條電流表與電壓表讀數(shù)之間的關(guān)系曲線,如圖( 2 )所示.則
( A )乙光的頻率小于甲光的頻率 ( B )甲光的波長大于丙光的波長 ( C )丙光的光子能量小于甲光的光子能量 ( D )乙光對(duì)應(yīng)的光電子最大初動(dòng)能小于丙光的光電子最大初動(dòng)能
( 2 )用光照射某金屬,使它發(fā)生光電效應(yīng)現(xiàn)象,若增加該入射光的強(qiáng)度,則單位時(shí)間內(nèi)從鋁板表面逸出的光電子數(shù)
 
,從表面逸出的光電子的最大動(dòng)量大小
 
(選填“增加”、“減小”或“不變,')
( 3 )用加速后動(dòng)能為Ek0的質(zhì)子:
 
1
1
H轟擊靜止的原子核 x,生成兩個(gè)動(dòng)能均為Ek的
 
4
2
He核,并釋放出一個(gè)頻率為 v 的γ光子.寫出上述核反應(yīng)方程并計(jì)算核反應(yīng)中的質(zhì)量虧損.(光在真空中傳播速度為 c )

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精英家教網(wǎng)A.(選修模塊3-3)
(1)有以下說法,其中正確的是
 

A.在兩分子間距離增大的過程中,分子間的作用力減小
B.布朗運(yùn)動(dòng)反映了花粉小顆粒內(nèi)部分子的無規(guī)則運(yùn)動(dòng)
C.晶體一定具有規(guī)則形狀,且有各向異性的特征
D.溫度、壓力、電磁作用等可以改變液晶的光學(xué)性質(zhì)
(2)一定質(zhì)量的理想氣體從狀態(tài)A(p1、V1)開始做等壓膨脹變化到
狀態(tài)B(p1、V2),狀態(tài)變化如圖中實(shí)線所示.此過程中氣體對(duì)外做的功為
 
,氣體分子的平均動(dòng)能
 
(選填“增大”“減小”或“不變”),氣體
 
(選填“吸收”或“放出”)熱量.
(3)已知地球的半徑R,地球表面的重力加速度g,大氣壓強(qiáng)p0,空氣的平均摩爾質(zhì)量為M,阿伏加德羅常數(shù)NA.請(qǐng)結(jié)合所提供的物理量估算出地球周圍大氣層空氣的分子數(shù).

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精英家教網(wǎng)A. (選修模塊3-3)
(1)對(duì)于分子動(dòng)理論和物體的內(nèi)能理解,下列說法正確的是
A、當(dāng)分子間距離從平衡r0位置增大時(shí),分子間的引力在減小,但斥力減小得更快,所以分子間作用力將表現(xiàn)為引力
B、布朗運(yùn)動(dòng)是液體分子的運(yùn)動(dòng),它說明分子永不停息地做無規(guī)則運(yùn)動(dòng)
C、理想氣體在狀態(tài)變化時(shí),溫度升高,氣體分子的平均動(dòng)能增大,氣體的壓強(qiáng)不一定增大
D、當(dāng)分子間的引力和斥力平衡時(shí),分子勢(shì)能最小
(2)如圖所示p-V圖,一定質(zhì)量的理想氣體由狀態(tài)A經(jīng)過程Ⅰ變至狀態(tài)B時(shí),從外界吸收熱量420J同時(shí)膨脹對(duì)外做功300J.當(dāng)氣體從狀態(tài)B經(jīng)過程Ⅱ回到狀態(tài)A時(shí),外界壓縮氣體做功200J,求此過程中氣體
 
(填“吸收”或“放出”)熱量為
 
J
(3)鍍銅的工藝應(yīng)用很廣泛.如果鍍膜內(nèi)銅原子的個(gè)數(shù)要求是8×1022個(gè)/米2,取1g銅,均勻鍍?cè)谖矬w表面時(shí),則能鍍膜的面積為
 
m2.(已知銅的摩爾質(zhì)量為64g/mol,結(jié)果保留兩位有效數(shù)字)

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