3．下列物質肯定為純凈物的是 ( ) A．只有一種元素組成的物質 B．只有一種原子構成的物質 C．只有一種分子構成的物質 D．只有一種元素的陽離子與另一種元素的陰離子構成的物質 【查看更多】

 

題目列表(包括答案和解析)

氣體A只含X、Y兩種短周期元素，X的原子序數(shù)大于Y的原子序數(shù)．常溫下B、D、E是常見氣體，C是液體．各物質有如下圖所示的轉化關系．

試回答下列問題：

(1)

若氣體A是純凈物，且A分子的空間構型為直線型，則A的電子式為________．

(2)

若氣體A是混合氣體，且X與Y的質量比小于3，則氣體A中肯定有________(寫化學式)．

(3)

若F與C在一定條件下還可以生成固體乙和氣體E，請寫出該反應的化學方程式________．

(4)

C與固體甲在高溫下反應的化學方程式為________．

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（2009?泰州模擬）高純超凈特種氣體主要用于制造半導體器件、化合物半導體、激光器、光導纖維、太陽能電池等．超純硅化氫制備方法如下：（已知：常溫下SiH4難溶于水，與稀硫酸不反應，乙醚沸點34.6℃）
①由下列兩種方法制得SiH4
方法一：Mg2Si+4NH4Cl
液氨
SiH4+2MgCl2+4NH3
方法二：LiAlH4+SiCl4
C2H5OC2H5
SiH4+AlCl3+LiCl
②除去SiH4中混有的雜質氣體
請回答下列問題：
（1）對方法一的理解，有同學認為是NH4+水解產生H+，Mg2Si與H+反應生成SiH4，你認為該觀點是否正確？并簡述理由
不正確，因為該反應在液氨中進行，非水體系，不會水解
不正確，因為該反應在液氨中進行，非水體系，不會水解
．
（2）將方法二的固體產物溶于水，只有一種物質能促進水的電離，則NaOH、Mg（OH）2、LiOH堿性由強到弱的順序為
NaOH＞LiOH＞Mg（OH）2
NaOH＞LiOH＞Mg（OH）2
．
（3）兩種方法制得的SiH4中均含有少量雜質，有同學提出用下列方法除去SiH4中的雜質，其中肯定不可行是
b
b
．
a．用稀硫酸洗氣     b．高溫使雜質分解      c．低溫分餾
（4）甲、乙、丙三同學在討論SiH4制備方法的化學反應類型時發(fā)表如下觀點，你認為正確的是
bc
bc
．
a．甲同學認為兩個反應均為氧化還原反應
b．乙同學認為兩個反應中只有一個屬于氧化還原反應
c．丙同學認為要判斷是否屬于氧化還原反應，還需要知道SiH4中各元素具體的化合價．

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