Question

【題目】硅是一種重要的半導(dǎo)體材料，應(yīng)用范圍廣。三氯硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產(chǎn)過程如圖所示：

(1)硅屬于__________(選填“金屬”或“非金屬”)元素；

(2)寫出上述流程中一種氧化物的化學(xué)式：______________________；

(3)上述流程中最后一步反應(yīng)的化學(xué)方程式為______________________________，該反應(yīng)屬于________(填基本反應(yīng)類型)反應(yīng)；

(4)如果還原SiHCl3過程中混入O2，可能引起的后果是________________________；

(5)該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學(xué)式是____________________。

Answer 1

【答案】 非金屬 SiO2(其他答案合理均可) SiHCl3＋H2Si＋3HCl 置換 爆炸 HCl

【解析】(1)根據(jù)元素的名稱分析解答；

(2)根據(jù)物質(zhì)的組成分析屬于氧化物的物質(zhì)，寫出化學(xué)式；

(3)分析流程中最后一步發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式，根據(jù)反應(yīng)特點分析類型；

(4)根據(jù)氫氣和氧氣的混合氣體點燃時會發(fā)生爆炸解答；

(5)根據(jù)流程分析可循環(huán)利用的物質(zhì)。

解：(1) (1)硅的名稱中帶有“石”字旁，屬于非金屬元素；

(2)二氧化硅是由硅元素和氧元素組成的，屬于氧合物，化學(xué)式為：SiO2；

(3)上述流程中最后一步反應(yīng)的化學(xué)方程式為：SiHCl3＋H2Si＋3HCl，該反應(yīng)是由一種單質(zhì)與一種化合物反應(yīng)生成了另一種單質(zhì)和另一種化合物，屬于置換反應(yīng)；

(4)如果還原SiHCl3過程中混入O2，會形成氫氣和氧氣的混合體，點燃時易引起爆炸；

(5)該流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)的化學(xué)式是HCl。