18．高良姜素是姜科植物高良姜根中的提取物，它能使鼠傷寒沙門氏菌TA98和TA100發(fā)生誘變，具有抗病菌作用．下列關于高良姜素的敘述正確的是（　　）
A．高良姜素的分子式為C15H15O5
B．高良姜素分子中含有3個羥基、8個雙鍵
C．高良姜素能與碳酸鈉溶液、溴水、酸性高錳酸鉀溶液等反應
D．1mol高良姜素與足量的鈉反應生成33.6LH2

分析 有機物含有酚羥基、羰基、羥基和碳碳雙鍵，結合苯酚、酮、醇以及烯烴的性質解答該題．

解答 解：A．由結構簡式可知高良姜素的分子式為C15H12O5，故A錯誤；
B．分子含有兩個苯環(huán)，只有1個碳碳雙鍵，故B錯誤；
C．含有酚羥基，可與碳酸鈉溶液反應、溴水反應，含有碳碳雙鍵，可與溴水發(fā)生加成反應，可被酸性高錳酸鉀氧化，故C正確；
D．含有3個羥基，但生成氫氣存在的外界條件未知，不能確定體積大小，故D錯誤．
故選C．

點評 本題考查有機物的結構和性質，側重于有機物的組成、結構和性質的考查，注意有機物空間結構特點的判斷，把握有機物的官能團的種類和性質，為解答該題的關鍵，易錯點為D，注意氣體存在的外界條件的判斷，題目難度不大．

練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：實驗題

8．ClO2是一種高效水處理劑，某實驗小組用如圖所示裝置制取并收集ClO2．已知：
信息內容
①ClO2為黃綠色氣體，極易溶于水，熔點為-59℃，沸點為11℃，具有強氧化性
②ClO2易爆炸，若用惰性氣體等稀釋，則爆炸的可能性大降低
③HClO4、HClO2均是強酸，HClO4為無色透明液體，沸點為90℃；HClO2很不穩(wěn)定，容易分解
（1）儀器a名稱是圓底燒瓶．裝置A中反應的化學方程式為2KClO3+H2C2O4=K2CO3+CO2↑+2ClO2↑+H2O．用H2C2O4、稀硫酸和KClO3制備ClO2的最大優(yōu)點是二氧化氯被二氧化碳稀釋，可防止二氧化氯爆炸．
（2）裝置C的作用是防止倒吸，裝置B中用冰水浴的目的是冷凝并分離出二氧化氯．
（3）工業(yè)上生產(chǎn)HClO4和NaClO2的工藝流程如圖所示．

①操作2的名稱是蒸餾；
②設計簡單實驗證明HClO2為弱酸：在常溫下測定NaClO2溶液的PH值，若PH值大于7，則為HClO2弱酸．
（4）ClO2很不穩(wěn)定，需用隨制，產(chǎn)物用水吸收得到ClO2溶液，為測定所得溶液中ClO2的含量，進行下列實驗：
步驟1：準確量取V1 mLClO2溶液于錐形瓶中．
步驟2：用稀硫酸調節(jié)ClO2溶液的pH≤2.0，加入足量的KI晶體，靜置片刻．
步驟3：加入指示劑，用c mol•L-1•的Na2S2O3溶液滴定至終點，消耗Na2S2O3溶液V2mL．
實驗中加入的指示劑是淀粉溶液，達到滴定終點時的現(xiàn)象是溶液由藍色變?yōu)闊o色，且保持30s不變．
原溶液中ClO2的含量為$\frac{13.5cV{\;}_{2}}{V{\;}_{1}}$g/L（用含字母的代數(shù)式表示）g•L-1．（已知：2ClO2+8H++10I-═2Cl-+5I2+4H2，2S2O32-+I2═2I-+S2O32-）

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

9．在密閉容器中盛有H2、O2、Cl2三種氣體，電火花點燃后，三種氣體都正好反應完全，冷卻到室溫，所得溶液的質量分數(shù)為25.26%，則原混合氣體中三者的分子個數(shù)之比為（　　）
A．15：8：1B．13：6：1C．9：6：1D．6：3：1

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

6．設NA為阿伏伽德羅常數(shù)的值，下列說法正確的是（　　）
A．1mol苯分子中含有C═C鍵的數(shù)目為3NA
B．含1molNa2CO3的溶液中，陰離子總數(shù)大于NA
C．1molFeI2與足量氯氣反應時轉移的電子數(shù)為2NA
D．標準狀況下，22.4L空氣中含有的氧原子數(shù)為2NA

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

13．元素單質及其化合物有廣泛用途，請根據(jù)周期表中第三周期元素相關知識回答下列問題：
（1）按原子序數(shù)遞增的順序（稀有氣體除外），以下說法正確的是b．
a．原子序數(shù)和離子半徑均減小               b．金屬性減弱，非金屬性增強
c．氧化物對應的水合物堿性減弱，酸性增強    d．單質的熔點降低
（2）原子最外層電子數(shù)與次外層電子數(shù)相同的元素名稱為氬
（3）已知：
化合物MgOAl2O3MgCl2AlCl3
類型離子化合物離子化合物離子化合物共價化合物
熔點/℃28002050714191
工業(yè)制鎂時的反應方程式是MgCl2$\frac{\underline{\;電解\;}}{\;}$Mg+Cl2↑；制鋁時，電解Al2O3不電解AlCl3的原因是熔融狀態(tài)下氯化鋁以分子存在，不導電，所以用電解熔融氧化鋁的方法冶煉．
（4）晶體硅（熔點1410℃）是良好的半導體材料．由粗硅制純硅過程如下：
Si（粗）$→_{460}^{Cl_{2}}$SiCl4$\stackrel{蒸餾}{→}$SiCl4（純）$→_{1100℃}^{H_{2}}$Si（純）
寫出SiCl4的電子式：；在上述由SiCl4制純硅的反應中，測得每生成1.12kg純硅需吸收akJ熱量，該反應的熱化學方程式：SiCl4（g）+2H2（g）$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si（s）+4HCl（g）△H=-0.025kJ/mol
（5）P2O5是非氧化性干燥劑，下列氣體不能用濃硫酸干燥，可用P2O5干燥的b：
a． NH3        b． HI        c． SO2      d． CO2
（6）KClO3可用于實驗室制O2，若不加催化劑，400℃時分解只生成兩種鹽，其中一種是無氧酸鹽，另一種鹽的陰陽離子個數(shù)比為1：1．寫出該反應的化學方程式：4KClO3$\frac{\underline{\;400℃\;}}{\;}$KCl+3KClO4．

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

3．使用SNCR脫硝技術的主反應為：
4NH3（g）+4NO（g）+O2（g）4N2（g）+6H2O（g）；△H
副反應及773K時平衡常數(shù)如表所示
反應△H（kJ•mol-1）平衡常數(shù)（K）
4NH3 （g）+5O2 （g）?4NO （g）+6H2O （g）-905.51.1×1026mol•L-1
4NH3 （g）+4O2 （g）?2N2O （g）+6H2O （g）-1104.94.4×1028
  4NH3 （g）+3O2 （g）?2N2 （g）+6H2O （g）-1269.07.1×1034L•mol-1
（1）主反應△H=-1632.5kJ•mol-1，773K時主反應平衡常數(shù)K=4.6×1043L•mol-1
（2）圖2表示在密閉體系中進行實驗，起始投入一定量NH3、NO、O2，測定不同溫度下，在相同時間內各組分的濃度．
①圖中a、b、c三點，主反應速率最大的是c
②試解釋N2濃度曲線先上升后下降的原因先上升：反應還未到達平衡狀態(tài)，溫度越高，化學反應速率越快，單位時間內N2濃度越大；后下降：達到平衡狀態(tài)后，隨著溫度升高，因反應正向放熱，平衡逆向移動，且隨溫度升高有副產(chǎn)物的生成，N2濃度降低．
③550K時，欲提高N2O的百分含量，應采取的措施是采用合適的催化劑
（3）電化學催化凈化NO是一種最新脫硝方法．原理示意圖如圖1，固體電解質起到傳導O2-的作
用．
A為外接電源的負極（填“正”、“負”）．通入NO的電極反應式為2NO+4e-=N2+2O2-．

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

10．金屬的表面處理可以使金屬制品美觀耐用，我國2000多年前就已經(jīng)掌握化學鍍鉻即鉻鹽氧化處理技術，現(xiàn)代工業(yè)中常采用電鍍或化學鍍進行金屬表面處理．請回答：
（1）化學鍍金是借助合適的還原劑，使鍍液中金屬離子還原沉積到金屬表面．如化學鍍鎳是在酸性環(huán)境下以NaH2PO2為還原劑（氧化生成NaH2PO3）使Ni2+還原，其離子方程式為Ni2++H2PO2-+H2O=Ni+H2PO3-+2H+；

（2）工業(yè)上進行電鍍時，待鍍金屬作為陰極．電鍍鉻若采用Cr3+的簡單水溶液，電鍍過程中陰極附近的pH與電鍍時間的關系如圖1，pH變化的原因是H+參與放電，上述過程的發(fā)生對鍍層產(chǎn)生的影響是鍍層變薄且不均勻；
（3）為防止上述過程發(fā)生，電鍍鉻可以在硫酸鹽溶液體系中進行，圖2為硫酸鹽溶液中Cr3+的濃度對鍍層厚度和覆蓋范圍的影響，隨厚度增加，鍍層覆蓋范圍變化的原因可能是Cr3+濃度增加會使鍍層加厚，但濃度增加鉻晶粒變大使覆蓋范圍變��；
（4）綜合考慮鍍層厚度及覆蓋范圍，電鍍鉻時溫度以30～40℃為佳，工業(yè)上控制反應溫度的設備名稱為熱交換器；電鍍鉻的過程中陽極會產(chǎn)生部分Cr2O72-，可以加入AB（填字母）除去；
A．H2O2   B．Na2SO3    C．FeSO4
（5）工業(yè)采用含Cr3+為3.25g/L的電解液電鍍鉻，則溶液pH不能大于4．（已知：35℃時，Kw=2.0×10-14，Ksp[Cr（OH）3]=5.0×10-31）

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

7．下列有關溶液組成的描述合理的是（　�。�
A．由水電離出的c（H+）=10-13mol/L的溶液中可能存在：HCO3-、K+、Cl-
B．酸性溶液中可能大量存在Na+、ClO-、I-
C．pH=l的溶液中的溶液中可以大量存在：K+、I-、NO3-
D．NH4Fe（SO4）2的溶液中一定可以存在：H+、Br-

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

8．用32gCu與300mL12mol/L的濃硝酸反應，當銅全部溶解后，共收集到標準狀況下的氣體11.2L（不考慮NO2轉化為N2O4），反應消耗的硝酸的物質的量是（　�。�
A．1.5molB．1.8molC．3.3molD．3.6mol

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