石墨烯（如圖甲）是一種由單層碳原子構成的平面結構新型碳材料，石墨烯中部分碳原子被氧化后，其平面結構會發(fā)生改變，轉化為氧化石墨烯（如圖乙）．

（1）圖甲中，1號C與相鄰C形成σ鍵的個數(shù)為　_________　．

（2）圖乙中，1號C的雜化方式是　_________　，該C與相鄰C形成的鍵角　_________　（填“＞”“＜”或“=”）圖甲中1號C與相鄰C形成的鍵角．

（3）若將圖乙所示的氧化石墨烯分散在H2O中，則氧化石墨烯中可與H2O形成氫鍵的原子有　_________　（填元素符號）．

（4）石墨烯可轉化為富勒烯（C60），某金屬M與C60可制備一種低溫超導材料，晶胞如圖丙所示，M原子位于晶胞的棱上與內(nèi)部，該晶胞中M原子的個數(shù)為　_________　，該材料的化學式為　_________　．

練習冊系列答案
相關習題

科目：高中化學 來源： 題型：


化學用語是學習化學的重要工具，下列化學用語中，正確的是

A． NH4＋的水解反應離子方程式：NH4＋ + H2O NH3·H2O + H＋

B．在AgCl懸濁液中加入KI溶液充分振蕩：Ag+ + I- = AgI↓

C．鍍銅時，陽極的電極反應式為： Cu2++2e－ == Cu

D．某反應⊿H＜0,則該反應在任意條件下均可自發(fā)進行。

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科目：高中化學 來源： 題型：


由熔鹽電解法獲得的粗鋁含有一定量的金屬鈉和氫氣，這些雜質可采用吹氣精煉法除去，產(chǎn)生的尾氣經(jīng)處理后可用鋼材鍍鋁。工藝流程如下：

(注：NaCl熔點為801 ℃；AlCl3在181 ℃升華)

(1)精煉前，需清除坩堝表面的氧化鐵和石英砂，防止精煉時它們分別與鋁發(fā)生置換反應產(chǎn)生新的雜質，相關的化學方程式為①_____________和

②___________________。

(2)將Cl2連續(xù)通入坩堝中的粗鋁熔體，雜質隨氣泡上浮除去。氣泡的主要成分除Cl2外還含有_____________；

固態(tài)雜質粘附于氣泡上，在熔體表面形成浮渣，浮渣中肯定存在________________。

(3)在用廢堿液處理A的過程中，所發(fā)生反應的離子方程式為_____________。

(4)鋼材鍍鋁后，表面形成的致密氧化鋁膜能防止鋼材腐蝕，其原因是____________。

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科目：高中化學 來源： 題型：


    工業(yè)上生產(chǎn)硫酸的流程圖如下：

請回答下列問題：

(1)早期生產(chǎn)硫酸以黃鐵礦為原料，但現(xiàn)在工廠生產(chǎn)硫酸以硫黃為原料，理由是________________________________________________________________________。

(2)在氣體進入催化反應室前需凈化的原因是_________________________________

________________________________________________________________________。

(3)在催化反應室中通常使用常壓，在此條件下SO2的轉化率為90%。但是部分發(fā)達國家采取高壓條件下制取SO3，采取加壓措施的目的除了加快反應速率外，還可以____________________________，從而提高生產(chǎn)效率。

(4)工業(yè)生產(chǎn)中常用氨—酸法進行尾氣脫硫，以達到消除污染，廢物利用的目的。用化學方程式表示其反應原理：____________________________________________________

________________________________________________________________________

________________________________________________________________________。

(5)除硫酸工業(yè)外，還有許多工業(yè)生產(chǎn)。下列相關的工業(yè)生產(chǎn)流程中正確的是________。

A．海水提溴：海水濃縮溴蒸氣液溴

B．海水提鎂：海灘貝殼石灰水MgO鎂

C．工業(yè)制硝酸：空氣NO2硝酸—→尾氣處理

D．工業(yè)合成氨：天然氣氫氣NH3、H2、N2氨

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科目：高中化學 來源： 題型：


現(xiàn)有幾組物質的熔點( ℃)數(shù)據(jù)：

A組

B組

C組

D組

金剛石：3 550 ℃

Li：181 ℃

HF：－83 ℃

NaCl：801 ℃

硅晶體：1 410 ℃

Na：98 ℃

HCl：－115 ℃

KCl：776 ℃

硼晶體：2 300 ℃

K：64 ℃

HBr：－89 ℃

RbCl：718 ℃

二氧化硅：1 723 ℃

Rb：39 ℃

HI：－51 ℃

CsCl：645 ℃

據(jù)此回答下列問題：

(1)A組屬于________晶體，其熔化時克服的微粒間的作用力是____________________。

(2)B組晶體共同的物理性質是________(填序號)。

①有金屬光澤�、趯щ娦浴、蹖嵝浴、苎诱剐�

(3)C組中HF熔點反常是由于_________________。

(4)D組晶體可能具有的性質是________(填序號)。

①硬度小�、谒芤耗軐щ姟、酃腆w能導電�、苋廴跔顟B(tài)能導電

(5)D組晶體的熔點由高到低的順序為NaCl>KCl>RbCl>CsCl，其原因為___________。

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科目：高中化學 來源： 題型：


元素H、C、N、O、F都是重要的非金屬元素,Fe、Cu是應用非常廣泛的金屬。

(1)Fe元素基態(tài)原子的核外電子排布式為　　　　。 

(2)C、H元素形成的化合物分子中共有16個電子,該分子中σ鍵與π鍵的個數(shù)比為　　　　。 

(3)C、N、O三種元素的第一電離能由大到小的順序為(用元素符號表示)　　　　。 

(4)在測定HF的相對分子質量時,實驗測得值一般高于理論值,其主要原因是                                                

                                                      　。 

(5)C、N兩元素形成的化合物C3N4形成的原子晶體,結構類似金剛石,甚至硬度超過金剛石,其原因是                               

                                                      　。 

(6)如圖為石墨晶胞結構示意圖,該晶胞中含有C原子的個數(shù)為　　　　。 

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科目：高中化學 來源： 題型：


原子序數(shù)由小到大排列的四種短周期元素X、Y、Z、W，其中X、Z、W與氫元素可組成XH3、H2Z和HW共價化合物；Y與氧元素可組成Y2O和Y2O2離子化合物。

(1)寫出Y2O2的電子式：_____________________，

其中含有的化學鍵是______________，屬于晶體類型為________。

(2)用電子式表示Y2O的形成過程______________________。

(3)X、Z、W三種元素的最高價氧化物對應的水化物中，稀溶液氧化性最強的是________(填化學式)。

(4)XH3、H2Z和HW三種化合物，其空間構型分別為________、________、________。其中一種與另外兩種都能反應的是______________(填化學式)，其生成物晶體類型分別屬于________、________。

(5)由X、W組成的化合物分子中，X、W原子的最外層均達到8電子穩(wěn)定結構，該化合物遇水可生成一種具有漂白性的化合物，試寫出反應的化學方程式__________________________。

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科目：高中化學 來源： 題型：


按要求完成下列方程式：

（1）       在NaClO溶液中通入足量SO2，寫出發(fā)生反應的離子方程式：_______________。

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科目：高中化學 來源： 題型：


在273 K和101 kPa的條件下，將2.00 g氦氣、1.40 g氮氣和1.60 g氧氣混合，該混合氣體的體積是

A．6.72 L          B．7.84 L      C．10.08 L         D．13.44 L

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