Question

20．下列除雜操作可行的是（　�。�

• A． 通過(guò)濃硫酸除去HCl中的H₂O
• B． 通過(guò)灼熱的CuO除去H₂中的CO
• C． 通過(guò)灼熱的鎂粉除去CO₂中的N₂
• D． 通過(guò)飽和碳酸氫鈉溶液除去Cl₂中的HCl

Answer 1

分析 A、HCl是酸性氣體；
B、氫氣能和CuO發(fā)生氧化還原反應(yīng)；
C、鎂粉能和二氧化碳反應(yīng)；
D、飽和碳酸氫鈉溶液水解顯弱堿性．

解答 解：A、HCl是酸性氣體，無(wú)強(qiáng)還原性，能用濃硫酸干燥，故A正確；
B、氫氣也能和CuO發(fā)生氧化還原反應(yīng)：CuO+H₂$\frac{\underline{\;△\;}}{\;}$Cu+H₂O，故不能用氧化銅除去氫氣中的CO，B錯(cuò)誤；
C、鎂粉也能和二氧化碳反應(yīng)：Mg+CO₂$\frac{\underline{\;點(diǎn)燃\;}}{\;}$2MgO+C，故C錯(cuò)誤；
D、飽和碳酸氫鈉溶液水解顯弱堿性，能吸收氯氣，故不能用飽和碳酸鈉溶液除去氯氣中的HCl，故D錯(cuò)誤．
故選A．

點(diǎn)評(píng) 物質(zhì)的除雜是考試的重點(diǎn)，應(yīng)根據(jù)雜質(zhì)和主體物質(zhì)的性質(zhì)的不同點(diǎn)來(lái)分析，難度不大．