16．下列各組物質(zhì)全部是弱電解質(zhì)的是（　�。�
A．H2SiO3   H2S   CO2B．H2O    NH3•H2O   H3PO4
C．H2SO3   BaSO4   CH4D．MgSO4   CH3COOH   CH3CH2OH

分析 只有部分電離的電解質(zhì)是弱電解質(zhì)，弱酸、弱堿和水都屬于弱電解質(zhì)．

解答 解：A．H2SiO3  和 H2S屬于弱酸是弱電解質(zhì)，CO2本身不能電離出離子屬于非電解質(zhì)，故A錯誤；
B．H2O、NH3•H2O、H3PO4 水溶液中部分電離屬于弱電解質(zhì)，故B正確；
C．H2SO3  水溶液中部分電離屬于弱電解質(zhì)，BaSO4  熔融狀態(tài)全部電離屬于強電解質(zhì)，CH4 不能電離屬于非電解質(zhì)，故C錯誤；
D．MgSO4 屬于鹽是強電解質(zhì)，CH3COOH 水溶液中部分電離屬于弱電解質(zhì)，CH3CH2OH不能電離屬于非電解質(zhì)，故D錯誤；
故選B．

點評 本題考查了強弱電解質(zhì)的劃分，明確其劃分標準是電解質(zhì)的電離程度，掌握概念的實質(zhì)是解題關(guān)鍵，題目難度不大．

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相關(guān)習題

科目：高中化學 來源： 題型：推斷題

17．某烴類化合物A的質(zhì)譜圖表明其相對分子質(zhì)量為84，紅外光譜表明分子中含有碳碳雙鍵，核磁共振譜表明分子中只有一種類型的氫．（C的相對原子質(zhì)量為12，H的相對原子質(zhì)量為1）
（1）A的結(jié)構(gòu)簡式為；
（2）A中的碳原子是否都處于同一平面？是（填“是”或者“不是”）；
（3）在圖中，D1、D2互為同分異構(gòu)體，E1、E2互為同分異構(gòu)體．

反應②的化學方程式為
C的化學名稱為2，3-二甲基-1，3-丁二烯
E2的結(jié)構(gòu)簡式是．

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科目：高中化學 來源： 題型：多選題

18．依反應①2W-+X2═2X-+W2；②2Y-+W2═2W-+Y；③2X-+Z2=2Z-+X2不下列結(jié)論正確的是（　�。�
A．X-、Y-、Z-、W-中Z-還原性最強B．X2、Y2、Z2、W2中Z2的氧化性最強
C．2Z-+Y2═-+Z2不能向右進行D．還原性X-＞Y-

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科目：高中化學 來源： 題型：實驗題

4．某探究小組以硫酸和銅為原料設(shè)計如下四種制硫酸銅晶體的路線：
甲：Cu$\stackrel{濃H_{2}SO_{4}、△}{→}$CuSO4溶液$\stackrel{后續(xù)操作}{→}$CuSO4•5H2O$\stackrel{灼燒}{→}$CuSO4
乙：Cu$\stackrel{稀H_{2}SO_{4}}{→}$$\stackrel{稀HNO_{3}分批多次}{→}$CuSO4溶液$\stackrel{后續(xù)操作}{→}$CuSO4•5H2O
丙：Cu$\stackrel{O_{2}、灼燒}{→}$CuO$\stackrel{稀H_{2}SO_{4}}{→}$CuSO4溶液$\stackrel{后續(xù)操作}{→}$CuSO4•5H2O$\stackrel{灼燒}{→}$CuSO4
�。篊u$\stackrel{稀H_{2}SO_{4}、X}{→}$CuSO4溶液$\stackrel{后續(xù)操作}{→}$CuSO4•5H2O$\stackrel{灼燒}{→}$CuSO4
請回答實驗中的有關(guān)問題：
（1）甲方案中發(fā)生反應的化學方程式為Cu+2H2SO4（濃）$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$CuSO4+SO2↑+2H2O．
（2）甲、乙、丙方案中，丙方案更合理，原因是不排放有毒氣體．
（3）乙方案中含有c（HNO3）=2mol•L-1，c（H2SO4）=4mol•L-1的廢酸混合液100mL（不使用其它酸或氧化劑），最多能制備硫酸銅晶體（CuSO4•5H2O）的質(zhì)量為75g．
（4）丙方案中用于灼燒的儀器名稱是坩堝，該實驗中的后續(xù)步驟指的是蒸發(fā)濃縮、冷卻結(jié)晶、過濾、洗滌、干燥．
（5）丁方案中Cu、試劑X、稀硫酸反應的化學方程式為Cu+H2O2+H2SO4=CuSO4+2H2O．

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科目：高中化學 來源： 題型：解答題

11．某有機物（X）的分子結(jié)構(gòu)模型如圖所示（分子中只有C、H、O三種原子），請回答下列問題．

（1）觀察題圖的分子結(jié)構(gòu)模型，寫出X分子中包含的官能團的名稱：羧基、碳碳雙鍵和羥基．
（2）下列對有機物X的性質(zhì)的說法正確的是①②．
①能使酸性高錳酸鉀溶液褪色
②能使溴水褪色
③1 mol X與足量的金屬鈉反應能放出標準狀況下的氫氣22.4L．
（3）寫出X在一定條件下發(fā)生消去反應生成的化學方程式：．
（4）1mol有機物X完全燃燒需消耗氧氣7mol．

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科目：高中化學 來源： 題型：計算題

1．解答下列問題：
（1）現(xiàn)有34g某氣體，摩爾質(zhì)量為17g•mol-1，則：
①該氣體為2 mol．
②該氣體所含分子數(shù)為2 NA．
③該氣體在標準狀況下的體積為44.8 L．
（2）若要配制100mL 0.1mo1•L-1Na2SO4溶液，需稱量Na2SO4的質(zhì)量為1.42g，從所配制溶液中取出5mL，則取出溶液的物質(zhì)的量濃度為0.1mo1•L-1．
（3）將標準狀況下2240mL氨完全溶于水配成100mL溶液，氨水中NH3的物質(zhì)的量濃度為1 mol•L-1．（不考慮NH3與H2O的反應）
（4）4.5g H2O與0.25 mol H2SO4所含的分子數(shù)相等，它們所含氧原子數(shù)之比是1：4．

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科目：高中化學 來源： 題型：實驗題

8．硅單質(zhì)及其化合物應用范圍廣．請回答下列問題：
（1）制備硅半導體材料必須先得到高醇硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當前制備高純硅的主要方法．生產(chǎn)過程示意圖如下：
石英砂$→_{高溫}^{焦炭}$粗硅$→_{573K以上}^{HCl}$SiHCl3（粗）$\stackrel{精餾}{→}$SiHCl3（純）$→_{1357K}^{H_{2}}$高純硅
①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式SiHCl3+H2═Si+3HCl．
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧．SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3．H2和另一種物質(zhì)．寫出配平的化學反應方程式SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl，H2還原SiHCl3過程中若混O2．可能引起的后果是高溫下，H2遇O2發(fā)生爆炸．
（2）下列有關(guān)硅材料的說法正確的是ABCD（填字母）．
A．高純度的硅，可用于生產(chǎn)光電池，將光能直接轉(zhuǎn)換為電能
B．氮化硅硬度大．熔點高．可用于制作高溫陶瓷和軸承
C．高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料----光導纖維
D．普通玻璃是由純堿．石灰石和石英砂制成的
E．鹽酸可以與硅反應．故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
（3）硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃．取少量硅酸鈉溶液于試管中．逐滴加入飽和氯化銨溶液．振蕩．寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋生成白色絮狀沉淀，又刺激性氣味的氣體生成，SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應，SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3•H2O+H2SiO3↓．

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

5．下列敘述正確的是（　�。�
①熱穩(wěn)定性：H2O＞HF＞H2S
②SrSO4是難溶于水的白色固體
③第ⅠA、ⅡA族元素的陽離子與同周期稀有氣體元素的原子具有相同的核外電子排布
④元素周期表中從ⅢB族到ⅡB族10個縱行的元素都是金屬元素　
⑤因為常溫下白磷可自然，而氮氣須在放電時才與氧氣反應，所以非金屬性：P＞N
⑥Li在氧氣中劇烈燃燒，產(chǎn)物是Li2O2，其溶液是一種強堿．
A．只有②④B．只有①⑤⑥C．只有②④⑥D．只有③⑤

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科目：高中化學 來源： 題型：選擇題

6．下列氣體中能形成酸雨的是（　�。�
A．N2B．COC．SO2D．O3

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