①密度之比為1∶2∶3 ②質(zhì)子數(shù)之比為6∶3∶2 ③中子數(shù)之比為0∶6∶8 ④體積之比為6∶3∶2

A.①②③④B.只有①②C.只有③④D.只有②④

（1）下列Li原子電子排布圖表示的狀態(tài)中，能量最低和最高的分別為_____、_____（填標(biāo)號(hào)）

A． B．

C． D．

（2）LiAlH4是有機(jī)合成中常用的還原劑，LiAlH4中的陰離子空間構(gòu)型是___________，中心原子的雜化形式為___________，LiAlH4中存在___________（填標(biāo)號(hào)）

A．離子鍵 B．σ鍵 C．π鍵 D．氫鍵

（3）基態(tài)K原子中，核外電子占據(jù)最高能層的符號(hào)是___________，占據(jù)該能層電子的電子云輪廓圖形狀是____________；K和Cr屬于同一周期，且核外最外層電子構(gòu)型相同，但金屬K的熔沸點(diǎn)等都比Cr低，原因是___________

（4）乙二胺（H2NCH2CH2NH2）是一種有機(jī)化合物，分子中氮、碳的雜化類型分別是_____________、_____________

（5）氣態(tài)三氧化硫以單分子形式存在，其分子的立體構(gòu)型為_________，其中共價(jià)鍵的類型有____

下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是（ ）

A. 反應(yīng)①階段，參加反應(yīng)的NaClO3和SO2的物質(zhì)的量之比為2：1

B. 若反應(yīng)①通過(guò)原電池來(lái)實(shí)現(xiàn)，則ClO2是正極產(chǎn)物

C. 反應(yīng)②中的H2O2可用NaClO2代替

D. 反應(yīng)②條件下，ClO2的氧化性大于H2O2

A.該晶體屬于原子晶體

B.X2+的配位數(shù)為8，Y2-的配位數(shù)為4

C.與每個(gè)Y2-距離最近且相等的Y2-共有12個(gè)

D.該晶體的熔點(diǎn)比氧化鋅高

A.石墨烯是高分子化合物

B.12 g的石墨烯中含有3NA個(gè)C－C鍵

C.一定條件下石墨烯可與H2發(fā)生加成反應(yīng)

D.根據(jù)結(jié)構(gòu)示意圖可知，石墨烯不能導(dǎo)電

A.最簡(jiǎn)單氣態(tài)氫化物的熱穩(wěn)定性:R>Q

B.最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)水化物的酸性:Q<W

C.原子半徑:T>Q>R

D.T、Q、W最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物均能與R的最高價(jià)氧化物對(duì)應(yīng)的水化物發(fā)生反應(yīng)

【題目】錫為ⅣA族元素，四碘化錫是常用的有機(jī)合成試劑（SnI4，熔點(diǎn)144.5℃，沸點(diǎn)364.5℃，易水解）。實(shí)驗(yàn)室以過(guò)量錫箔為原料通過(guò)反應(yīng)Sn+2I2SnI4制備SnI4。下列說(shuō)法錯(cuò)誤的是（ ）

A. 加入碎瓷片的目的是防止暴沸

B. SnI4可溶于CCl4中

C. 裝置Ⅰ中a為冷凝水進(jìn)水口

D. 裝置Ⅱ的主要作用是吸收揮發(fā)的I2

【題目】利用反應(yīng)CCl4+4NaC（金剛石）+4NaCl可實(shí)現(xiàn)人工合成金剛石。下列關(guān)于該反應(yīng)的說(shuō)法錯(cuò)誤的是（ ）

A. C（金剛石）屬于原子晶體

B. 該反應(yīng)利用了Na的強(qiáng)還原性

C. CCl4和C（金剛石）中C的雜化方式相同

D. NaCl晶體中每個(gè)Cl-周圍有8個(gè)Na+

A.N原子核外存在3種不同能量的電子

B.基態(tài)V原子的價(jià)電子軌道表示式為

C.基態(tài)O原子，電子占據(jù)的最高能級(jí)符號(hào)為2p

D.基態(tài)C、N兩種原子中，核外存在相同對(duì)數(shù)自旋方向相反的電子

A.AB.BC.CD.D