Ⅰ.工業(yè)上使用的捕碳劑有NH3和(NH4)2CO3，它們與CO2可發(fā)生如下可逆反應：

NH3(l)＋H2O(l)＋CO2(g)NH4HCO3(aq)　ΔH1

2NH3(l)＋H2O(l)＋CO2(g)(NH4)2CO3(aq)　ΔH2

(NH4)2CO3(aq)＋H2O(l)＋CO2(g)2NH4HCO3(aq)　ΔH3

則ΔH3＝_________________(用含ΔH1、ΔH2的代數(shù)式表示)。

Ⅱ.目前國際空間站處理CO2的一個重要方法是將CO2還原，所涉及的化學反應方程式為CO2(g)＋4H2(g)CH4(g)＋2H2O(g)，已知：H2的體積分數(shù)隨溫度的升高而增加。

（1）該反應的ΔS________0(填“＞”“＜”或“＝”)，該反應的ΔH________0(填“＞”或“＜”)。

（2）在恒容密閉容器中通入等物質(zhì)的量的CO2和H2并發(fā)生上述反應，T ℃下，CO2物質(zhì)的量濃度c(CO2)隨時間t變化的曲線如圖所示。下列能說明反應達到平衡狀態(tài)的是________(填字母代號)。

A．體系壓強保持不變

B．混合氣體密度保持不變

C．甲烷和水蒸氣的物質(zhì)的量之比保持不變

D．H2的質(zhì)量分數(shù)保持不變

（3）T℃下，反應前20 s的平均反應速率v(H2)＝______________(用含a、b的代數(shù)式表示)。

（4）T℃下，該反應的平衡常數(shù)K＝_________________________(用含a、b的代數(shù)式表示)。

（5）若降低溫度，反應重新達到平衡，則v(正)________；CO2轉(zhuǎn)化率________(填“增大”“減小”或“不變”)。

Ⅲ.工業(yè)上常用高濃度的K2CO3溶液吸收CO2，得溶液X，再利用電解法使K2CO3溶液再生，其裝置示意圖如圖所示：

（1）在陽極區(qū)發(fā)生的反應包括___________________________________和H＋＋HCO3－=CO2↑＋H2O。

（2）簡述CO32－在陰極區(qū)再生的原理：____________________________。

（3）NH3·BH3＋3H2O2=NH4BO2＋4H2O。下列說法正確的是___________。

A．電流從左側(cè)電極經(jīng)過負載后流向右側(cè)電極

B．BO2－通過質(zhì)子交換膜向正極移動

C．負極附近溶液pH增大

D．正極的反應式為3H2O2＋6H＋＋6e－=6H2O

A.相比于 b，a裝置具有副反應少、原料利用率高等優(yōu)點

B.加入的濃硫酸要稍多于催化劑用量的原因是濃硫酸還起到吸水劑的作用，推動平衡正向進行

C.反應結(jié)束后，將收集到的產(chǎn)品倒入分液漏斗中，振蕩、放氣、靜置、分液，然后從下口放出制備的產(chǎn)物

D.乙酸乙酯在飽和碳酸鈉溶液中的溶解度較小

(1)、CH3CH2CH2NH2中所含官能團的名稱分別為 ______、 ________。

(2)D→E的反應類型是_______。

(3)B的分子式為C12H12O2，寫出B的結(jié)構(gòu)簡式；____ 。

(4)C的一種同分異構(gòu)體X同時滿足下列條件，寫出X的結(jié)構(gòu)簡式：_______。

①含有苯環(huán)，能使溴水褪色；

②能在酸性條件下發(fā)生水解，水解產(chǎn)物分子中所含碳原子數(shù)之比為6：5，其中一種水解產(chǎn)物分子中含有3種不同化學環(huán)境的氫原子。

(5)已知： R3COOH+，寫出以和為原料制備的合成路線流程圖_______(無機試劑和有機溶劑任用，合成路線流程圖示例見本題題干)。

(1)稱取一定質(zhì)量的樣品于錐形瓶中，加入適量的蒸餾水和稀鹽酸，加熱至全部溶解，冷卻后將溶液分成兩等份。

②取其中一份溶液，調(diào)節(jié)溶液pH在6～8之間。加入0.1000 mol/LI2的標準溶液25.00 mL,充分反應后滴入2～3滴指示劑X，用0.1000 mol/LNa2S2O3標準溶液滴定至藍色恰好褪去，發(fā)生反應：。消耗Na2S2O3標準溶液22.00 mL(蛋氨酸與I2反應時物質(zhì)的量之比為1：1，產(chǎn)物不與Na2S2O3發(fā)生反應)。

③向另一份溶液中加入NH3·H2O-NH4Cl緩沖溶液，加熱至70℃左右，滴入2-3滴指示劑PAN，用0.02500 mol/LEDTA (Na2H2Y)標準溶液滴定其中Cu2+(離子方程式為Cu2++H2Y2--=CuY2-+2H+)，消耗EDTA標準溶液28.00 mL。

(1)指示劑X為 ____。

(2)用Na2S2O3標準液滴定時，若pH過小，會有S和SO2生成。寫出S2O32-與H+反應的離子方程式 ___________ 。

(3)若滴定管水洗后未用EDTA標準溶液潤洗，測得Cu2+的物質(zhì)的量將____(填“偏大”、“偏小”或“不變”)。

(4)通過計算確定蛋氨酸銅[Cux(Met)y]的化學式(寫出計算過程)________。

CH3CH2CH2CHO

實驗步驟如下：

步驟Ⅰ：向三頸燒瓶中加入6.3 mL 2% NaOH溶液，在充分攪拌下，從恒壓滴液漏斗慢慢滴入5mL正丁醛。

步驟Ⅱ：充分反應后，將反應液倒入如圖儀器中，分去堿液，將有機相用蒸餾水洗至中性。

步驟Ⅲ：經(jīng)洗滌的有機相加入適量無水硫酸鈉固體，放置一段時間后過濾。

步驟Ⅳ：減壓蒸餾有機相，收集60～70℃/1.33～4.00kPa的餾分。

(l)步驟Ⅰ中的反應需在80℃條件下進行，適宜的加熱方式為___ 。使用冷凝管的目的是 _______。

(2)步驟Ⅱ中所用儀器的名稱為_____ 。堿液在儀器中處于_____(填“上層”或“下層”)，如何判斷有機相已經(jīng)洗至中性：______。

(3)步驟Ⅲ中加入無水硫酸鈉固體的作用是______。

(1)硒常用作光敏材料，基態(tài)硒原子的核外電子排布式為[Ar]_______；與硒同周期的p區(qū)元素中第一電離能大于硒的元素有_____種；SeO3的空間構(gòu)型是_______。

(2)根據(jù)元素周期律，原子半徑Ga ___As，第一電離能Ga _____As。(填“大于”或“小于”)

(3)水晶的主要成分是二氧化硅，在水晶中硅原子的配位數(shù)是______，硅與氫結(jié)合能形成一系列的二元化合物SiH4、Si2H6等，與氯、溴結(jié)合能形成SiCl4 、SiBr4,上述四種物質(zhì)的沸點由高到低的順序為__________，丁硅烯(Si4H8)中σ鍵與π鍵個數(shù)之比為___。

(4)GaN、GaP、GaAs都是很好的半導體材料，晶體類型與晶體硅類似，熔點如下表所示，分析其變化原因___。

(5)GaN晶體結(jié)構(gòu)如圖所示。已知六棱柱底邊邊長為a cm，阿伏加德羅常數(shù)的值為NA。

①晶體中Ga原子采用六方最密堆積方式，每個Ga原子周圍距離最近的Ga原子數(shù)目為_____。

②從GaN晶體中“分割”出的平行六面體如圖所示。若該平行六面體的體積為cm3，GaN晶體的密度為____g/cm3(用a、NA表示)。

【題目】一定條件下，CH4與H2O（g）發(fā)生反應：CH4（g）＋H2O（g）CO（g）＋3H2（g）。設起始＝Z，在恒壓下，平衡時CH4的體積分數(shù)φ（CH4）與Z和T（溫度）的關(guān)系如圖所示。下列說法正確的是

A.該反應的焓變ΔH<0

B.圖中Z的大小為a<3<b

C.圖中X點對應的平衡混合物中＝3

D.溫度不變時，圖中X點對應的平衡在加壓后φ（CH4）減小

A. 1.00molNaCl中含有NaCl分子數(shù)為NA

B. 18gD2O和18gH2O中含有的質(zhì)子數(shù)均為10NA

C. 1molFe高溫條件下與水蒸反應，電子轉(zhuǎn)移數(shù)為3NA

D. 12g石墨烯(單層石墨)中含有六元環(huán)的個數(shù)為0.5NA

A. 與W相鄰的同主族元素可制成重要的半導體材料

B. X單質(zhì)不可能置換出W單質(zhì)

C. 元素原子半徑從大到小的順序是X、Y、Z

D. W、Y、Z元素最高價氧化物對應的水化物中酸性最強的是HZO4

A.裝置A：制取H2，離子方程式為Zn＋2H＋＝Zn2＋＋H2↑

B.裝置B：用于除去H2中雜質(zhì)，①中盛有NaOH溶液，②中盛有濃硫酸

C.裝置C：制取CaH2，先點燃C處酒精燈，后打開A中分液漏斗的活塞

D.裝置D：豎直導管的作用是平衡壓強，觀察H2流速以調(diào)節(jié)反應的進行