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(1)正電子發(fā)射型計算機斷層顯像(PET)的基本原理是:將放射性同位素氧15注入人體,氧15在人體內(nèi)衰變放出的正電子與人體內(nèi)的負電子相遇湮滅轉(zhuǎn)化為一對γ光子,被探測器采集后,經(jīng)計算機處理生成清晰圖象。則根據(jù)PET原理判斷下列表述正確的是
A.氧15在人體內(nèi)衰變方程是→
+
B.正、負電子湮滅方程是+
→2γ
C.在PET中,氧15主要用途是作為示蹤原子
D.在PET中,氧15主要用途是參與人體的新陳代謝
(2)如圖所示,光滑曲面軌道的水平出口跟停在光滑水平面上的平板小車上表面相平,小車上表面不光滑,質(zhì)量為m的小滑塊從光滑軌道上某處由靜止開始滑下并滑上小車,使得小車在水平面上滑動。已知小滑塊從高為H的位置由靜止開始滑下,最終停到小車上。若小車的質(zhì)量為M,重力加速度為g,求:
(Ⅰ)滑塊滑上小車后,小車達到的最大速度v;
(Ⅱ)該過程系統(tǒng)產(chǎn)生的內(nèi)能Q。
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錢學森被譽為中國導彈之父,“導彈”這個詞也是他的創(chuàng)作。導彈制導方式很多,慣性制導系統(tǒng)是其中的一種,該系統(tǒng)的重要元件之一是加速度計,如圖所示。沿導彈長度方向安裝的固定光滑桿上套一質(zhì)量為m的絕緣滑塊,分別與勁度系數(shù)均為k的輕彈簧相連,兩彈簧另一端與固定壁相連。當彈簧為原長時,固定在滑塊上的滑片停在滑動變阻器(電阻總長為L)正中央,M、N兩端輸入電壓為U0,輸出電壓UPQ=0。系統(tǒng)加速時滑塊移動,滑片隨之在變阻器上自由滑動,UPQ相應改變,然后通過控制系統(tǒng)進行制導。設某段時間導彈沿水平方向運動,滑片向右移動,UPQ=U0,則這段時間導彈的加速度( )
A.方向向右,大小為 B.方向向左,大小為
C.方向向右,大小為 D.方向向左,大小為
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一輕質(zhì)細繩一端系一質(zhì)量為m=0.05 kg的小球A,另一端套在光滑水平細軸O上,O到小球的距離為L= 0.1 m,小球與水平地面接觸,但無相互作用。在球的兩側(cè)等距離處分別固定一個光滑的斜面和一個擋板,二者之間的水平距離S= 2m,如圖所示。現(xiàn)有一滑塊B,質(zhì)量也為m,從斜面上高度h=3m處由靜止滑下,與小球和擋板碰撞時均沒有機械能損失。若不計空氣阻力,并將滑塊和小球都視為質(zhì)點,滑塊B與水平地面之間的動摩擦因數(shù)=0.25,g取10 m/s2。求:
(1)滑塊B與小球第一次碰撞前瞬間,B速度的大小;
(2)滑塊B與小球第一次碰撞后瞬間,繩子對小球的拉力;
(3)小球在豎直平而內(nèi)做完整圓周運動的次數(shù)
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如圖所示,水下光源S向水面A點發(fā)射一束光線,折射光線分別為a、b兩束。則( )
A.在水中a光的速度與b光的一樣大
B.a(chǎn)、b兩束光相比較,在真空中a光的波長較長
C.若保持入射點A位置不變,將入射光線順時針旋轉(zhuǎn),從水面上方觀察,a光先消失
D.用同一雙縫干涉實驗裝置分別用a、b光做實驗,a光干涉相鄰條紋間距小于b光干涉相鄰條紋間距
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有一種大型游戲器械,它是一個圓筒型容器,筒壁豎直,游客進入容皿后靠筒壁站立。當圓筒開始轉(zhuǎn)動后,轉(zhuǎn)速加快到一定程度時,突然地板塌落,游客發(fā)現(xiàn)自己沒有落下去,這是因為
A.游客處于超重狀態(tài) B.游客處于失重狀態(tài)
C.游客受到的摩擦力等于重力 D.筒壁對游客的支持力提供向心力
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如圖所示,水平放置的平行金屬框架寬0.6m。金屬棒垂直框架兩邊放置,電阻R=1Ω,金屬棒電阻r=0.2Ω,其余電阻不計,整個裝置處于方向如圖所示磁感應強度B=0.5T的勻強磁場中,當金屬棒以v=4m/s的速度勻速向右運動時,
求:(1)導線中感應電流的大��?
(2)ab棒的感應電流方向?
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法拉第發(fā)現(xiàn)了電磁感應現(xiàn)象,不僅推動了電磁理論的發(fā)展,而且推動了電磁技術的發(fā)展,引領人類進入了電氣時代.下列哪些器件工作時用到了電磁感應現(xiàn)象?( )
A.電視機的顯像管 B.磁流體發(fā)電機 C.指南針 D.回旋加速器
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如圖所示,觀察電流表的指針,可以看到( )
A、指針隨著線圈轉(zhuǎn)動而擺動,并且線圈旋轉(zhuǎn)一周,指針左右擺動一次
B、當線圈平面轉(zhuǎn)到跟磁感線垂直的平面位置時,電流表的指針的偏轉(zhuǎn)最大
C、當線圈平面轉(zhuǎn)到跟磁感線平行的位置時,電流表的指針的偏轉(zhuǎn)最大
D、在勻強磁場中勻速轉(zhuǎn)動的線圈里產(chǎn)生感應電動勢和感應電流是按正弦規(guī)律變化的
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如圖所示,滑塊質(zhì)量為m,與水平地面間的動摩擦因數(shù)為0.1,它以的初速度由A點開始向B點滑行,AB=5R,并滑上光滑的半徑為R的
圓弧BC,在C點正上方有一旋轉(zhuǎn)平臺,沿平臺直徑方向開有兩個離軸心距離相等的小孔P、Q,旋轉(zhuǎn)時兩孔均能達到C點的正上方。
求:
(1)滑塊運動到B點做圓周運動時,對軌道的壓力為多大?
(2)若滑塊滑過C點后通過P孔,又恰能從Q孔落下,滑塊通過P孔時的速度為,則平臺轉(zhuǎn)動的角速度ω應滿足什么條件?
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物體A的質(zhì)量m=1kg,靜止在光滑水平面上的平板車B的質(zhì)量為M=0.5kg、長L=1m。某時刻A以v0=4m/s向右的初速度滑上木板B的上表面,在A滑上B的同時,給B施加一個水平向右的拉力。忽略物體A的大小,已知A與B之間的動摩擦因數(shù)??=0.2,求:
(1)若F=5N,需經(jīng)過多長時間物體A與小車運動速度相等?此時,物體A相對小車滑行的距離為多少?此距離是否是物體A在小車上相對小車滑行的最大距離?
(2)如果要使A不至于從B上滑落,拉力F大小應滿足什麼條件?
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